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J-GLOBAL ID：200903004204065021

反応方法および反応装置

Inventor：
岡本 秀穂

About 岡本 秀穂


Applicant, Patent owner：
住友化学工業株式会社

About 住友化学工業株式会社


Agent (3)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004068705
Publication number (International publication number)：2004290971
Application date： Mar. 11, 2004
Publication date： Oct. 21, 2004
Summary：
【課題】大量に反応生成物を得ることができる新たな反応方法およびその反応装置を提供すること。【解決手段】薄膜状の第一反応試剤相と薄膜状の第二反応試剤相とを連続的に接触、反応させる薄膜状反応流路を有する反応装置であって、前記反応流路に第一反応試剤と第二反応試剤を導入するための導入路が設けられ、前記導入路には、前記導入路を流れ方向に二分するとともに、その流れ方向の延長線が前記反応流路を流れ方向に二分する整流板が設けられており、前記整流板で区切られた導入路の一方に第一反応試剤をその流動挙動が層流となるよう導入する第一導入手段と、前記導入路の他方に第二反応試剤をその流動挙動が層流となるよう導入する第二導入手段と、反応生成物を取出す取出口とを備えてなることを特徴とする反応装置。【選択図】図13
Claim (excerpt)：
薄膜状反応流路内に、第一反応試剤と第二反応試剤とを導入路を通じて連続的に導入し、薄膜状の第一反応試剤相および第二反応試剤相を前記反応流路内に形成させ、両反応試剤相を連続的に接触、反応させる方法であって、前記導入路には、前記導入路を流れ方向に二分するとともに、その流れ方向の延長線が前記反応流路を流れ方向に二分する整流板が設けられており、前記整流板で区切られた導入路の一方に第一反応試剤を、前記導入路の他方に第二反応試剤を、それぞれその流動挙動が層流となるよう導入することを特徴とする反応方法。
IPC (3)：
B01J19/00 ,  C07C269/02 ,  C07C271/28
FI (3)：
B01J19/00 321 ,  C07C269/02 ,  C07C271/28
F-Term (16)：
4G075AA02 ,  4G075BA05 ,  4G075BD05 ,  4G075BD15 ,  4G075BD22 ,  4G075CA02 ,  4G075CA03 ,  4G075EE12 ,  4G075FA01 ,  4G075FA12 ,  4H006AA04 ,  4H006AC56 ,  4H006BD60 ,  4H006BD81 ,  4H006RA38 ,  4H006RB28
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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