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J-GLOBAL ID：200903004243574057

現像装置

Inventor： 町田 純二 ,  中川 秀一 ,  井上 龍次
Applicant, Patent owner： ミノルタ株式会社
Agent (1)： 松川 克明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997084030
Publication number (International publication number)：1998282787
Application date： Apr. 02, 1997
Publication date： Oct. 23, 1998
Summary：

【要約】【課題】 現像剤担持体の表面に規制部材を圧接させて像担持体と対向する現像領域に搬送される現像剤の量を規制する場合に、現像剤が割れて微粉が発生するのを防止すると共に、現像性能等が低下するのを抑制し、良好な画像が安定して得られるようにする。【解決手段】 現像剤2を表面に保持して像担持体1と対向する現像領域に搬送する現像剤担持体11と、現像剤担持体の表面に圧接させて現像領域に搬送される現像剤の量を規制する規制部材14とを有する現像装置において、現像剤担持体の表面及び/又はこの現像剤担持体の表面に圧接させる規制部材の表面を、ゴム硬度が20〜70度で、伸びが400〜1200%の範囲にある弾性材料で構成すると共に、現像剤担持体の表面における体積固有抵抗値が1×104 〜1×1010Ω・cmの範囲になるようにした。

Claim (excerpt)：

現像剤を表面に保持して像担持体と対向する現像領域に搬送する現像剤担持体と、この現像剤担持体の表面に圧接させて現像領域に搬送される現像剤の量を規制する規制部材とを有する現像装置において、上記の現像剤担持体の表面及び/又はこの現像剤担持体の表面に圧接させる規制部材の表面を、ゴム硬度が20〜70度、伸びが400〜1200%の範囲にある弾性材料で構成すると共に、この現像剤担持体の表面における体積固有抵抗値が1×104 〜1×1010Ω・cmの範囲になるようにしたことを特徴とする現像装置。

IPC (2)：

G03G 15/08 504 ,  G03G 15/08 501

FI (2)：

G03G 15/08 504 B ,  G03G 15/08 501 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 現像装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-329306   Applicant：株式会社東芝, 東芝インテリジェントテクノロジ株式会社