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J-GLOBAL ID：200903004257541569

化学研磨装置及びそのガラス基板

Inventor：
西山 智弘

About 西山 智弘


Applicant, Patent owner：
西山ステンレスケミカル株式会社

About 西山ステンレスケミカル株式会社


Agent (1)： 野中 誠一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007167321
Publication number (International publication number)：2009007183
Application date： Jun. 26, 2007
Publication date： Jan. 15, 2009
Summary：
【課題】目詰まりを起こしにくく、ガラス基板に供給される気泡に位置的なバラツキがなく、高品質の化学研磨を実現する化学研磨装置を提供する。【解決手段】フッ酸を含有する研磨液を閉鎖状態で保有する化学研磨槽と、直径0.3mm〜2mm程度の気泡開口HOを所定の間隔で上向きに設けた複数列の中空パイプ2と、複数列の中空パイプ2に空気を連続的に供給して化学研磨槽に気泡を発生させる給気ポンプと、複数列の中空パイプ2の上部で、所定の拡散空間を隔てて複数のガラス基板を垂直姿勢で保持するバスケットとを備える。バスケット単位で実行される化学研磨処理を複数回繰り返した後、沈殿空間に沈殿する反応生成物を排出口から排出する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
フッ酸を含有する研磨液を保有する化学研磨槽に配置され、直径0.3mm〜2mmの気泡開口を所定ピッチで設けた複数列の中空パイプと、前記複数列の中空パイプにガスを連続的に供給して前記化学研磨槽に気泡を発生させる給気部と、前記複数列の中空パイプの上部で、前記開口ピッチに対応して広く確保される拡散空間を隔てて複数のガラス基板を垂直姿勢で保持するバスケットとを備え、 前記バスケット単位で実行される化学研磨処理を複数回繰り返した後、前記複数列の中空パイプを洗浄処理して、閉塞状態の気泡開口が存在しないことを条件に、前記複数列の中空パイプを再使用するようにしている化学研磨装置。
IPC (2)：
C03C 15/00 ,  G02F 1/133
FI (2)：
C03C15/00 C ,  G02F1/1333 500
F-Term (8)：
2H090JA09 ,  2H090JB02 ,  2H090JC01 ,  4G059AA01 ,  4G059AA08 ,  4G059AC03 ,  4G059BB04 ,  4G059BB14
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • ガラス基板の化学加工方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-110838   Applicant：西山ステンレスケミカル株式会社
Cited by examiner (6)
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