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J-GLOBAL ID：200903004368576310

ステージ装置、露光装置、及び前記ステージ装置を用いた位置決め方法

Inventor：
谷口 哲夫

About 谷口 哲夫

, 
神谷 三郎

About 神谷 三郎


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Agent (1)： 大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998339789
Publication number (International publication number)：2000164504
Application date： Nov. 30, 1998
Publication date： Jun. 16, 2000
Summary：
【要約】【課題】 ステージの移動範囲を、そのステージの位置を計測する干渉計の計測範囲よりも大きくし、かつそのステージの位置を高精度に計測する。【解決手段】 ウエハステージWSTが、側面の移動鏡22X,22Yにレーザ干渉計15X1,15X2,15Yからのレーザビームが照射されない位置から移動して、レーザ干渉計15X1,15X2,15Yの計測範囲内に入った際に、基準マークMAの位置をウエハアライメントセンサにより計測し、この計測結果に基づいてレーザ干渉計15X1,15X2,15Yの計測値の補正を行う。また、計測用ステージ14が、レーザ干渉計15X1,15X2,15Yの計測範囲内に入った際にも、同様に基準マークMBの位置をウエハアライメントセンサにより計測し、この計測結果に基づいてレーザ干渉計15X1,15X2,15Yの計測値の補正を行う。
Claim (excerpt)：
所定の移動面に沿って互いに独立に移動自在に配置された複数の可動ステージと、前記複数の可動ステージの内の一つの可動ステージの位置を所定の計測範囲内で計測する第1測定系と、を備えたステージ装置であって、前記複数の可動ステージのそれぞれに対して、該可動ステージの前記計測範囲内の所定の基準位置からの位置ずれ量、又は前記基準位置に対する合致度を計測する第2測定系、を備え、前記第2測定系の計測結果に基づいて前記第1測定系の計測値の補正を行うことを特徴とするステージ装置。
IPC (3)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/23 ,  G03F 9/00
FI (3)：
H01L 21/30 503 A ,  G03F 7/23 H ,  G03F 9/00 A
F-Term (16)：
2H097AA12 ,  2H097BA01 ,  2H097KA03 ,  2H097KA28 ,  2H097KA38 ,  2H097LA10 ,  5F046AA13 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC13 ,  5F046CC16 ,  5F046CC17 ,  5F046DB05 ,  5F046DB10 ,  5F046DC05 ,  5F046DC12
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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