投影露光装置及び投影露光方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：立石篤司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997343740
Publication number (International publication number)：1998214783
Application date： Nov. 28, 1997
Publication date： Aug. 11, 1998
Summary：

【要約】【課題】スループットの向上及び基板ステージの小型・軽量化を図る。【解決手段】測長軸BI1X、BI3Yの計測値を用いてステージWS1の位置を管理しつつ基板W1に対し投影光学系PLを介しての露光が行なわれる間に、ステージWS2上の基板W2のアライメントマークと基準板FM2との位置関係がアライメント系24bの検出結果と測長軸BI5Yの計測値を用いて正確に検出されるように、2つのステージの動作を制御する。また、両ステージの動作が終了すると、測長軸BI3Yの計測値を用いてステージWS2の位置計測が可能な状態で測長軸BI3Yの干渉計をリセットするとともに、投影光学系の投影領域内の所定の基準点(マスクパターン像の投影中心)との位置関係を検出可能な位置に基準板FM2が位置決めされるようにステージWS2の動作を制御する。

Claim (excerpt)：

マスクに形成されたパターンの像を投影光学系を介して感応基板上に投影露光する投影露光装置であって、感応基板を保持して2次元平面内を移動可能な第1基板ステージと;感応基板を保持して前記第1基板ステージと同一平面内を前記第1基板ステージとは独立に移動可能な第2基板ステージと;前記投影光学系とは別に設けられ、前記基板ステージ上又は前記基板ステージに保持された感応基板上のマークを検出するためのアライメント系と;前記投影光学系の投影中心と前記アライメント系の検出中心とを通る第1軸方向の一方側から前記第1基板ステージの前記第1軸方向の位置を常に計測する第1測長軸と、前記第1軸方向の他方側から前記第2基板ステージの前記第1軸方向の位置を常に計測する第2測長軸と、前記投影光学系の投影中心で前記第1軸と垂直に交差する第3測長軸と、前記アライメント系の検出中心で前記第1軸と垂直に交差する第4測長軸とを備え、これらの測長軸により前記第1及び第2基板ステージの2次元位置をそれぞれ計測する干渉計システムと;前記第1基板ステージ及び第2基板ステージの内の一方のステージの位置が前記干渉計システムの前記第3測長軸の計測値を用いて管理され,該一方のステージに保持された感応基板が露光される間に、前記第1基板ステージ及び第2基板ステージの内の他方のステージに保持された感応基板上のアライメントマークと前記他方のステージ上の基準点との位置関係が前記アライメント系の検出結果と前記干渉計システムの第4測長軸の計測値とを用いて検出されるように前記2つの基板ステージの動作を制御した後に、前記第3測長軸の計測値を用いて前記他方のステージの位置計測が可能な状態で前記第3測長軸の干渉計をリセットするとともに、前記投影光学系の投影領域内の所定の基準点との位置関係を検出可能な位置に前記他方のステージ上の基準点が位置決めされるように前記他方のステージの動作を制御する制御手段と;を有する投影露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00

FI (4)：

H01L 21/30 525 E , G03F 7/20 521 , G03F 9/00 H , H01L 21/30 516 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

ステップ・アンド・リピート装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-112936 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
特開昭61-263123
露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-345453 Applicant：株式会社ニコン

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