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J-GLOBAL ID:200903004509517135

高周波加熱装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 岩橋 文雄 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999085817
Publication number (International publication number):2000277250
Application date: Mar. 29, 1999
Publication date: Oct. 06, 2000
Summary:
【要約】【課題】 本発明は、マイクロ波空間を形成する境界面のインピーダンスを変化させて被加熱物の所望の特定領域を加熱したり、被加熱物全体の加熱を均一化する高周波加熱装置を提供するものである。【解決手段】 マイクロ波空間10を形成する左側側面12に形成した開孔部20と、開孔部20に接続された溝部23と、溝部23内に設けた誘電体板24と、誘電体板24を回転駆動制御するステッピングモータ36と、操作部25に設けた加熱領域選択入力部26と、選択入力部26の入力信号に基いてステッピングモータを駆動制御する制御部29を備え、誘電体板24の支持角度を可変してマイクロ波空間10内のマイクロ波の定在波分布を可変制御して被加熱物に対して入力された加熱領域を選択加熱あるいは全体加熱する利便性の高い装置を提供する。
Claim (excerpt):
給電されたマイクロ波を実質的に閉じ込めるマイクロ波空間内に収納される被加熱物の加熱領域を選択指定するために、前記マイクロ波空間を形成する境界面のインピーダンスを規定する加熱領域選択入力部を備えた高周波加熱装置。
IPC (2):
H05B 6/74 ,  H05B 6/68 310
FI (2):
H05B 6/74 E ,  H05B 6/68 310 Z
F-Term (23):
3K086AA01 ,  3K086AA03 ,  3K086BA08 ,  3K086CA11 ,  3K086CC01 ,  3K086CC06 ,  3K086CC13 ,  3K086DB11 ,  3K086FA03 ,  3K090AA01 ,  3K090AA03 ,  3K090BA01 ,  3K090BB16 ,  3K090BB17 ,  3K090CA02 ,  3K090CA21 ,  3K090DA06 ,  3K090DA11 ,  3K090EA01 ,  3K090EA02 ,  3K090EB02 ,  3K090EB29 ,  3K090EB36
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (19)
  • 電子レンジ
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平7-134855   Applicant:株式会社東芝, 東芝エー・ブイ・イー株式会社
  • 高周波加熱装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-335337   Applicant:松下電器産業株式会社
  • 高周波加熱装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-139884   Applicant:松下電器産業株式会社
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