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J-GLOBAL ID:200903004523580338

EL素子の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999178749
Publication number (International publication number):2001006875
Application date: Jun. 24, 1999
Publication date: Jan. 12, 2001
Summary:
【要約】【課題】 大面積のEL素子が製造できる方法であって、塗布液の使用効率が高く、層厚が均一であり、高速生産が可能で、簡便な製造方法を提供する。【解決手段】 少なくとも、基体と、該基体上に形成された第1電極と、該第1電極上に形成されたEL層と、該EL層上に形成された第2電極からなるEL素子の製造方法であって、前記第1電極、前記EL層および前記第2電極の少なくとも1層を塗布によって形成する方法であり、この塗布が前記基体または塗布装置を移動させながら塗布液に接触させる、EL素子の製造方法。
Claim (excerpt):
少なくとも、基体と、該基体上に形成された第1電極と、該第1電極上に形成されたEL層と、該EL層上に形成された第2電極からなるEL素子の製造方法であって、前記第1電極、前記EL層および前記第2電極の少なくとも1層を塗布によって形成する方法であり、この塗布が前記基体を搬送させながら塗布液に接触させる方法を用いることを特徴とする、EL素子の製造方法。
IPC (2):
H05B 33/10 ,  H05B 33/14
FI (2):
H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A
F-Term (14):
3K007AB00 ,  3K007AB03 ,  3K007AB04 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007BA07 ,  3K007CA01 ,  3K007CA05 ,  3K007CA06 ,  3K007CB01 ,  3K007DA00 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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