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J-GLOBAL ID:200903004544880056

極低温冷却装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 後藤 洋介 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001113567
Publication number (International publication number):2002310521
Application date: Apr. 12, 2001
Publication date: Oct. 23, 2002
Summary:
【要約】【課題】 真空容器内での輻射熱による影響を受けること無く所望の極低温状態を維持することのできる極低温冷却装置を提供する。【解決手段】 第1段、第2段の冷凍ステージ11、12から成る冷凍ステージ10を真空容器20内に配置し、この真空容器内であって第1段の冷凍ステージにおけるヘッド部分には、第2段の冷凍ステージを包囲して熱的にシールドするための筒状の第1の熱シールド板31を設ける。真空容器内には更に、第1段の冷凍ステージの底部フランジ11-3に設けられたサポート部材33を介して少なくとも第2段の冷凍ステージを包囲するように筒状の第2の熱シールド板32を設けた。
Claim (excerpt):
極低温側を最終段とする複数段の冷凍ステージを真空容器内に配置し、該真空容器内であって少なくとも最終段の一段手前の冷凍ステージにおけるヘッド部分には、最終段の冷凍ステージを包囲して熱的にシールドするための筒状の第1の熱シールド板を設けて成る極低温冷却装置において、前記真空容器内には更に、第1段の冷凍ステージの底部フランジに設けられたサポート部材を介して少なくとも最終段の冷凍ステージを包囲するように筒状の第2の熱シールド板を設けたことを特徴とする極低温冷却装置。
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
  • 特開平4-052468
  • 特開平1-033474
  • 極低温容器
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-306362   Applicant:住友電気工業株式会社
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