イオン注入装置及びイオン注入方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長谷川芳樹 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998310665
Publication number (International publication number)：2000138179
Application date： Oct. 30, 1998
Publication date： May. 16, 2000
Summary：

【要約】【課題】イオン注入装置及びイオン注入方法において、マスキング等を行うことなしに、1回のイオン注入プロセスで1枚のウェハ上に複数種類のドーズ量領域を形成することができるようにする。【解決手段】イオン注入装置10のウェハ支持ホイール20は、第1駆動モータ34により回転するとともに、第2駆動モータ36により揺動する。制御装置42は、ウェハ支持ホイール20の揺動範囲における中間位置で2つの基本揺動速度モードの一方が他方に切り換わる制御用揺動速度モードを複数個予め記憶しておき、入力装置40により選択入力された制御用揺動速度モードに従って第2駆動モータ36を制御する。これにより、ウェハ支持ホイール20が揺動範囲内を揺動すると、各ウェハWには2つの基本揺動速度モードに対応した2つの異なるドーズ量領域が形成される。

Claim (excerpt)：

イオンビームを発生するイオンビーム発生部と、イオン注入されるウェハを支持するウェハ支持ホイールであって、前記イオンビーム発生部からのイオンビームが前記ウェハの表面全体を走査するよう、前記ウェハを旋回させるべく回転可能となっていると共に、揺動シャフトにより揺動可能に支持されている前記ウェハ支持ホイールと、前記ウェハ支持ホイールを回転させる第1駆動モータと、前記ウェハ支持ホイールを揺動させる、正逆両方向に駆動可能であり且つ速度調整可能である第2駆動モータと、前記ウェハの表面全体にイオンが均一に注入されるように予め設定された複数の基本揺動速度モードのいずれかに基づいて前記第2駆動モータを回転させ前記ウェハ支持ホイールの揺動速度を制御する制御手段とを備えるイオン注入装置において、前記制御手段は、前記ウェハ支持ホイールの揺動範囲における任意に選定された切換位置で前記複数の基本揺動速度モードのうちのいずれかの基本揺動速度モードが他の基本揺動速度モードに切り換わるよう前記第2駆動モータを制御するようになっていることを特徴とするイオン注入装置。

IPC (3)：

H01L 21/265 , C23C 14/48 , H01J 37/317

FI (3)：

H01L 21/265 603 D , C23C 14/48 Z , H01J 37/317 B

F-Term (5)：

4K029BD01 , 4K029CA10 , 4K029DE02 , 4K029JA02 , 5C034CC11

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

イオン注入方法およびその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-015700 Applicant：株式会社日立製作所
特開昭50-018176

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