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J-GLOBAL ID：200903004570458273

新規二酸化ケイ素

Inventor： 親木 康高 ,  青木 恒人
Applicant, Patent owner： 塩野義製薬株式会社
Agent (1)： 小島 隆司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997338077
Publication number (International publication number)：1999157827
Application date： Nov. 21, 1997
Publication date： Jun. 15, 1999
Summary：

【要約】【解決手段】 細孔分布曲線において、細孔半径10nm以下にΔVp/ΔRp値(但し、Vpは細孔容積、Rpは細孔半径)の最大値を有し、そのΔVp/ΔRp値の最大値が100mm3/nm・g以上であり、かつ全細孔容積に対して細孔ピーク半径(ΔVp/ΔRpが最大値を示す細孔半径)±1nmの範囲に相当する細孔容積の割合が全細孔容積の20%以上である二酸化ケイ素。【効果】 本発明の二酸化ケイ素は、吸着剤、充填剤等として優れた性能を有する。

Claim (excerpt)：

細孔分布曲線において、細孔半径10nm以下にΔVp/ΔRp値(但し、Vpは細孔容積、Rpは細孔半径)の最大値を有し、そのΔVp/ΔRp値の最大値が100mm3/nm・g以上であり、かつ全細孔容積に対して細孔ピーク半径(ΔVp/ΔRpが最大値を示す細孔半径)±1nmの範囲に相当する細孔容積の割合が全細孔容積の20%以上である二酸化ケイ素。

IPC (6)：

C01B 33/193 ,  B01J 21/08 ,  G01N 30/48 ,  B01J 20/10 ,  B01J 32/00 ,  C12H 1/04

FI (7)：

C01B 33/193 ,  B01J 21/08 Z ,  G01N 30/48 E ,  G01N 30/48 K ,  B01J 20/10 A ,  B01J 32/00 ,  C12H 1/04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 高吸油性多孔質シリカ及びその製造方法並びに担体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-215650   Applicant：塩野義製薬株式会社
• 二酸化ケイ素及びその製造方法並びにビールの安定化処理剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-153030   Applicant：塩野義製薬株式会社, アサヒビール株式会社