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J-GLOBAL ID:200903004595048959
アクティブマトリクス回路
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994197515
Publication number (International publication number):1996043859
Application date: Jul. 30, 1994
Publication date: Feb. 16, 1996
Summary:
【要約】【目的】 アクティブマトリクス回路において、TFTのリーク電流による画素電圧の低下を低減させるための補助容量を提供する。【構成】 層間絶縁物を少なくとも2層形成し、第1の層間絶縁物上に少なくとも表面が陽極酸化されたアルミニウム膜を用いて、アクティブマトリクス回路のソース配線および補助容量の一方の電極を、その上に窒化珪素膜によって第2の層間絶縁物を、第2の層間絶縁物上に画素電極を、それぞれ形成する。この結果、アルミニウムの配線と、画素電極との間で窒化珪素の第2の層間絶縁物を誘電体とする補助容量が形成される。
Claim (excerpt):
薄膜トランジスタを有するアクティブマトリクス回路において、ソース配線と同じ層内に存在し、表面が陽極酸化されたアルミニウムが最上面に存在する配線(アルミニウム配線)と、該アルミニウム配線上に設けられた画素電極と、該アルミニウム配線および画素電極の間に設けられた窒化珪素を主成分とする被膜とを有し、該アルミニウム配線と画素電極は電気的に絶縁されていることを特徴とするアクティブマトリクス回路。
IPC (3):
G02F 1/136 500
, H01L 21/316
, H01L 29/786
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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特開平3-288824
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特開平2-216129
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特開平4-167437
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薄膜トランジスタパネルの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-355635
Applicant:カシオ計算機株式会社
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アクティブマトリクス液晶表示装置とその作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-244136
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
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