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J-GLOBAL ID：200903004672641307

反射防止膜及びそれを施した光学系

Inventor： 大谷 実 ,  安藤 謙二 ,  鈴木 康之 ,  枇榔 竜二 ,  金沢 秀宏
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996093534
Publication number (International publication number)：1997258006
Application date： Mar. 22, 1996
Publication date： Oct. 03, 1997
Summary：

【要約】【課題】 波長190nm〜250nmの紫外光域で良好な反射防止特性を有し、半導体デバイスの製造装置に好適な反射防止膜及びそれを施した光学系を得ること。【解決手段】 透明な基板上に該基板側から空気側へ順にAl2 O3 を含む高屈折率層とSiO2 を含む低屈折率層を設け、波長190nmから波長250nmまでの光に対する該低屈折率層と該高屈折率層及び該基板の屈折率をそれぞれns,na,nとした場合、1.45≦ns≦1.651.60≦na≦1.85n≦nsを満足すること。

Claim (excerpt)：

透明な基板上に該基板側から空気側へ順にAl2O3 を含む高屈折率層とSiO2 を含む低屈折率層を設け、波長190nmから波長250nmまでの光に対する該低屈折率層と該高屈折率層及び該基板の屈折率をそれぞれns,na,nとした場合、1.45≦ns≦1.651.60≦na≦1.85n≦nsを満足することを特徴とする反射防止膜。

IPC (2)：

G02B 1/11 ,  B32B 7/02 103

FI (2)：

G02B 1/10 A ,  B32B 7/02 103

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 2波長反射防止膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-337945   Applicant：キヤノン株式会社
• 反射防止膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-011749   Applicant：キヤノン株式会社
• 特開平1-138501
  
• 特開昭60-032001