Pat

J-GLOBAL ID：200903004676626850

粒度分布測定装置

Inventor： 大畑 学
Applicant, Patent owner： 日機装株式会社
Agent (1)： 吉田 研二 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999363319
Publication number (International publication number)：2001174394
Application date： Dec. 21, 1999
Publication date： Jun. 29, 2001
Summary：

【要約】【課題】 粒度分布測定装置の校正を容易に行うことができるようにする。【解決手段】 試料により散乱された光を検出する検出器18を、均一な照度で照射する校正用光源34を配置する。校正用光源34により検出器18を照射して、受光素子20ごとの出力を測定する。この出力は、本来受光素子20の面積に比例するものであるが、ばらつきが生じた場合、これを打ち消すような補正係数を受光素子20に対応する検出器18の区分ごとに定める。実際の試料の粒度測定においては、各受光素子の出力に対して前記補正係数による補正を行う。また、定期的に補正係数を算出し、これが大きく変化した場合、装置の異常を判定する。

Claim (excerpt)：

分散した粒状試料に照射された光の散乱状態を測定することによって、試料の粒度を測定する粒度分布測定装置において、試料により散乱した光を検出する検出器に対し、試料に照射する測定用光源とは別個に、所定の強度の光を照射する校正用光源を有する、粒度分布測定装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭62-228137
  
• 分析方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-158408   Applicant：オリンパス光学工業株式会社