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J-GLOBAL ID:200903004762633427
検査装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
古谷 史旺 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997228183
Publication number (International publication number):1999067134
Application date: Aug. 25, 1997
Publication date: Mar. 09, 1999
Summary:
【要約】【課題】 本発明は、電子ビームを利用して、画像を取得する検査装置に関し、拡大倍率にかかわらず、常に、均一で鮮明な画像を取得することができる検査装置を提供することを目的とする。【解決手段】 電子ビームのビーム断面を矩形状または楕円形状に成形し、試料面上に照射する照射手段1と、電子ビームの照射により、試料から発生する二次電子、反射電子または後方散乱電子の少なくとも1種を二次ビームとして検出し、試料の画像情報を生成する電子検出手段2と、照射手段1から照射される電子ビームを試料面上に照射させ、かつ試料から発生する二次ビームを、電子検出手段2に導くウィーンフィルタ3と、試料面上に電子ビームを走査させる偏向手段4とを備えて構成する。
Claim (excerpt):
電子ビームのビーム断面を矩形状または楕円形状に成形し、試料面上に照射する照射手段と、前記電子ビームの照射により、前記試料から発生する二次電子、反射電子または後方散乱電子の少なくとも1種を二次ビームとして検出し、前記試料の画像情報を生成する電子検出手段と、前記照射手段から照射される電子ビームを前記試料面上に照射させ、かつ前記試料から発生する二次ビームを、前記電子検出手段に導くウィーンフィルタと、前記試料面上に前記電子ビームを走査させる偏向手段とを備えたことを特徴とする検査装置。
IPC (3):
H01J 37/22 502
, H01J 37/05
, H01L 21/66
FI (4):
H01J 37/22 502 B
, H01J 37/05
, H01L 21/66 C
, H01L 21/66 J
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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ウェーハパターンの欠陥検出方法及び同装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-041346
Applicant:株式会社東芝
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直接写像型反射電子顕微鏡
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-095180
Applicant:日本電子株式会社
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