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J-GLOBAL ID：200903007872609091
ウェーハパターンの欠陥検出方法及び同装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994041346
Publication number (International publication number)：1995249393
Application date： Mar. 11, 1994
Publication date： Sep. 26, 1995
Summary：
【要約】 (修正有)【目的】 検出感度を落とすことなく走査速度の向上を図る。【構成】 走査する電子ビームを矩形ビーム31にする。矩形ビームを形成する電子光学系は、矩形陰極光源と四極子レンズ系とからなる電子光学系が最も適しており、矩形ビームの短軸方向に偏向系により走査しながら、ステージを長軸方向に長軸長と一致するピッチで移動させることにより、試料面上をラスタ走査する。矩形ビームは従来の円形ビームを縦に複数個並べたもの考えられ、ビームの水平移動方向をX方向、垂直移動方向をY方向とすると、X方向のサイズは円形ビームと同じであって解像度は落ちることはない。また、矩形ビームは円形ビームに比べてY方向のサイズだけ大きくなったことになり、従来と比べY方向の折返し回数が減り、走査速度が向上する。その速度向上の度合いは矩形ビームのアスぺクト(長軸長と短軸長の長さの比)分の画素信号が同時に検出される。
Claim (excerpt)：
矩形光源からの矩形電子ビームをウェーハ試料面のパターンに合わせたサイズにした検査用矩形電子ビームにより前記試料面の検査対象部分を走査する矩形電子ビーム発生手段と、前記試料面から生ずる電子信号を検出する電子信号検出手段と、前記電子信号検出手段の出力信号に基づく電子信号像データにより前記試料における欠陥の存在を検出する欠陥検出手段とを備えたウェーハパターンの欠陥検出装置。
IPC (3)：
H01J 37/28
, H01J 37/09
, H01J 37/22 502
Cited by applicant (7)
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Cited by examiner (3)
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特開平2-230649
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特開平3-155030
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電子ビーム検査方法とそのシステム
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平4-124951
Applicant：日本ケー・エル・エー株式会社
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