描画システム

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：松浦孝 , 小倉洋樹 , 野中剛 , 虎山滋郎 , 坪内伸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006147878
Publication number (International publication number)：2007316473
Application date： May. 29, 2006
Publication date： Dec. 06, 2007
Summary：

【課題】描画処理において、ノウハウ的知識に基づいたセッティングをすることなく、適切な描画パターンを形成する。【解決手段】あらかじめ設定された発光長に従い、2つの式に基づいて露光動作ピッチEP、走査速度Vを算出する。そして、様々な露光量および発光長とそれに対応する走査速度,露光動作ピッチの中で、選択される露光量、発光長に応じた走査速度、露光動作ピッチを決定し、露光パラメータとして描画処理において設定する。【選択図】図6

Claim (excerpt)：

複数の光変調素子が規則的に走査方向に沿って配列された光変調ユニットを用い、前記光変調ユニットによる露光エリアを被描画体に対して相対的に一定速度で走査させ、各光変調素子による露光スポットをオーバラップさせるように露光動作時間間隔に従って露光動作を実行する描画システムにおいて、

IPC (3)：

G03F 7/20 , H01L 21/027 , G03F 1/08

FI (3)：

G03F7/20 501 , H01L21/30 515F , G03F1/08 B

F-Term (16)：

2H095BB08 , 2H095BB33 , 2H097AA03 , 2H097AB07 , 2H097BB01 , 2H097BB03 , 2H097CA17 , 2H097GB04 , 2H097LA09 , 5F046AA06 , 5F046BA06 , 5F046BA07 , 5F046CA03 , 5F046CB18 , 5F046DA01 , 5F046DA02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

多重露光描画方法及び多重露光描画装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-278031 Applicant：ペンタックス株式会社

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