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J-GLOBAL ID:200903005092984904

炭化水素の酸化脱水素用触媒

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5): 石田 敬 ,  鶴田 準一 ,  永坂 友康 ,  西山 雅也 ,  樋口 外治
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2002526500
Publication number (International publication number):2004508190
Application date: Sep. 13, 2001
Publication date: Mar. 18, 2004
Summary:
本発明は、少なくとも一つの高級炭化水素および/または低級オレフィンを形成するための低級炭化水素の酸化脱水素用触媒を提供する。一つの実施形態において、触媒は、無秩序および/または欠陥構造を有する式MXCYOZで表される非化学量論的希土類オキシ炭酸塩を含む。式中、MはLa、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、およびTmからなる群から選択される少なくとも一つの希土類元素であり;X=2;Z=3+AY;Aは約1.8未満であり、およびYはオキシ炭酸塩中の炭素原子数である。約100psigを超える圧力で低級炭化水素の酸化脱水素用に用いられる場合、触媒は少なくとも一つの高級炭化水素および/または低級オレフィンに対する少なくとも約40%の選択性を有する。本発明により教示される触媒を調製するための方法、および低級炭化水素の酸化脱水素用の触媒を用いるための製法も提供される。
Claim (excerpt):
La、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、およびTmから選択される少なくとも一つの希土類元素のオキシ炭酸塩、ヒドロキシ炭酸塩および/または炭酸塩であって、そのオキシ炭酸塩、ヒドロキシ炭酸塩および/または炭酸塩は無秩序および/または欠陥構造を有し、そのオキシ炭酸塩はさらに式MXCYOZ(式中、Mは上に定義された少なくとも一つの希土類元素であり、およびX=2、Z=3+AY、Aは約1.8未満であり、およびYはオキシ炭酸塩中の炭素原子数である)を有することを特徴とする、低級炭化水素の酸化脱水素用触媒であって、該触媒は、100psigを超える圧力で低級炭化水素の酸化脱水素用に用いられる場合、少なくとも一つの高級炭化水素および/または低級オレフィンに対する少なくとも40%の選択性を有する触媒。
IPC (9):
B01J27/232 ,  B01J27/236 ,  B01J27/25 ,  B01J37/14 ,  C07C2/84 ,  C07C5/48 ,  C07C9/06 ,  C07C9/08 ,  C07C11/04
FI (9):
B01J27/232 Z ,  B01J27/236 Z ,  B01J27/25 Z ,  B01J37/14 ,  C07C2/84 ,  C07C5/48 ,  C07C9/06 ,  C07C9/08 ,  C07C11/04
F-Term (96):
4G069BA21C ,  4G069BB06B ,  4G069BB12B ,  4G069BB14B ,  4G069BB16A ,  4G069BB16B ,  4G069BC01A ,  4G069BC02B ,  4G069BC03B ,  4G069BC04B ,  4G069BC05B ,  4G069BC06B ,  4G069BC08A ,  4G069BC09B ,  4G069BC10B ,  4G069BC12B ,  4G069BC13B ,  4G069BC21A ,  4G069BC21B ,  4G069BC22A ,  4G069BC22B ,  4G069BC25A ,  4G069BC25B ,  4G069BC26A ,  4G069BC26B ,  4G069BC31A ,  4G069BC31B ,  4G069BC35A ,  4G069BC35B ,  4G069BC42A ,  4G069BC42B ,  4G069BC43B ,  4G069BC44A ,  4G069BC44B ,  4G069BC51B ,  4G069BC54A ,  4G069BC54B ,  4G069BC55A ,  4G069BC55B ,  4G069BC56A ,  4G069BC56B ,  4G069BC58A ,  4G069BC58B ,  4G069BC59A ,  4G069BC59B ,  4G069BC60A ,  4G069BC60B ,  4G069BC62A ,  4G069BC62B ,  4G069BC64A ,  4G069BC64B ,  4G069BC66A ,  4G069BC66B ,  4G069BC67A ,  4G069BC67B ,  4G069BC68A ,  4G069BC68B ,  4G069BE01C ,  4G069BE08C ,  4G069CB63 ,  4G069CC07 ,  4G069EC02X ,  4G069EC02Y ,  4G069EC15X ,  4G069EC15Y ,  4G069EC16X ,  4G069EC16Y ,  4G069FA01 ,  4G069FB40 ,  4G069FC04 ,  4G069FC07 ,  4G069FC08 ,  4H006AA02 ,  4H006AC12 ,  4H006AC23 ,  4H006BA08 ,  4H006BA11 ,  4H006BA12 ,  4H006BA14 ,  4H006BA16 ,  4H006BA19 ,  4H006BA20 ,  4H006BA32 ,  4H006BA55 ,  4H006BA60 ,  4H006BA81 ,  4H006BA85 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BC19 ,  4H006BE30 ,  4H039CA12 ,  4H039CA19 ,  4H039CA21 ,  4H039CC10 ,  4H039CL25
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • 特開平1-143838
  • 特開平1-305038
  • 低級オレフィンの製造法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平10-062294   Applicant:工業技術院長, 社団法人日本化学工業協会, 出光石油化学株式会社, 東燃化学株式会社, 日本石油化学株式会社, 丸善石油化学株式会社

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