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J-GLOBAL ID：200903005108891006

基板乾燥装置

Inventor：
泉 昭

About 泉 昭


Applicant, Patent owner：
大日本スクリーン製造株式会社

About 大日本スクリーン製造株式会社


Agent (1)： 吉田 茂明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996033758
Publication number (International publication number)：1997232277
Application date： Feb. 21, 1996
Publication date： Sep. 05, 1997
Summary：
【要約】【課題】 蒸発した溶剤の蒸気が基板位置へ至るのを阻害することなく、基板の汚染を防止することができる基板乾燥装置を提供する。【解決手段】 処理槽1の内部においてその底部に貯留されたIPA液表面と基板Wとの間に受け皿5とそのX軸方向の正負両側に5本の円筒状のチューブ71が接続部材によって等しいチューブ間隔を保って固着されたミストトラップ7a,7bが水平面内で長手方向がY軸の正負方向に一致した状態で設けられている。ミストトラップ7a,7bが平板状でないため、落下するIPAの液滴の跳ね返りが基板Wの方向に限定されず、また、チューブ71が互いにそれらの外周面の最外部のみで直線状に隣接するため、それらの隙間にIPAが溜まりにくく、IPAの蒸気を遮断して基板Wの位置へ至るのを阻害せずに基板Wの汚染を防止できる。
Claim (excerpt)：
貯留した溶剤表面から溶剤の蒸気を発生させ、前記溶剤表面の上方に支持した基板を前記蒸気に接触させることにより前記基板を乾燥させる基板乾燥装置において、溶剤表面と基板との間に、複数の棒状部材を互いに間隔を設けて配列したことを特徴とする基板乾燥装置。
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
  • 特開昭62-150827
  • 半導体ウエーハ洗浄装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-297367   Applicant：ソニー株式会社
  • 特開昭63-160232
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Cited by examiner (1)
  • 特開昭62-150827

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