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J-GLOBAL ID：200903005165416462

新規なポリマー及びフォトレジスト組成物

Inventor：
ユーデイ クマール

About ユーデイ クマール


Applicant, Patent owner：
シップレーカンパニー エル エル シー

About シップレーカンパニー エル エル シー


Agent (1)： 佐伯 憲生
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997291498
Publication number (International publication number)：2000029215
Application date： Sep. 16, 1997
Publication date： Jan. 28, 2000
Summary：
【要約】【課題】 新規なフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 本発明は、新規なポリマー、及び、該ポリマーを樹脂バインダー成分として含むフォトレジスト組成物を提供する。本発明のポリマーは、アセタールエステル又はケタールエステル部分を含む繰返し単位を包含する。本発明の好ましいフォトレジストは、樹脂バインダー成分としてアセタールエステル又はケタールエステル単位を持つポリマーを含みかつ光によって発生する酸の存在で反応して溶解度に差をもたらすことができるポジ型化学増幅フォトレジストに関する。
Claim (excerpt)：
感光性成分、並びに、1)フェノール単位及び2)ポリマー骨格から直接懸吊しかつ該感光性成分の光活性化の時に反応可能なアセタールエステル又はケタールエステル単位を有するポリマーから成る樹脂バインダーを含有してなるフォトレジスト組成物。
IPC (6)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 2/48 ,  C08F212/14 ,  C08F220/26 ,  C08L 25/08 ,  H01L 21/027
FI (6)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 2/48 ,  C08F212/14 ,  C08F220/26 ,  C08L 25/08 ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)
  • 感放射線性樹脂組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-259756   Applicant：日本合成ゴム株式会社
  • 特開平4-251259
  • 特開平4-251259

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