Pat
J-GLOBAL ID:200903005325591657
窒素導入型金属酸化物の製造方法及びこれを用いた光触媒の製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
谷 義一
, 阿部 和夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2009013496
Publication number (International publication number):2009196883
Application date: Jan. 23, 2009
Publication date: Sep. 03, 2009
Summary:
【課題】低温下で簡便に窒素導入型金属酸化物を製造する方法、及び可視光領域で光触媒として高い性能を有する窒素導入型金属酸化物光触媒の製造方法を提供する。【解決手段】ヒドラジン化合物存在下で、第4族、第5族、第6族、および第12族からなる群から選択される一種以上の金属の酸化物または水酸化物と、固体の窒素化合物の混合物を加熱することにより、効率的に金属酸化物に窒素を導入することができ、さらにそれを活性化させることにより可視光領域で高い触媒能を有する光触媒を提供することができる。【選択図】図1
Claim (excerpt):
(1)以下の成分:
(a)第4族、第5族、第6族、および第12族からなる群から選択される一種以上の金属の酸化物または水酸化物と、
(b)常温で固体の窒素化合物と、
(c)以下の式(1)を有するヒドラジンもしくはアルキルヒドラジン、またはその塩、またはその付加物からなる群から選択されるヒドラジン化合物:
IPC (9):
C01B 13/14
, C01G 23/047
, B01J 35/02
, B01J 23/06
, B01J 23/20
, B01J 23/24
, C01G 33/00
, C01G 9/02
, C01G 41/02
FI (9):
C01B13/14 A
, C01G23/047
, B01J35/02 J
, B01J23/06 M
, B01J23/20 M
, B01J23/24 M
, C01G33/00 A
, C01G9/02 A
, C01G41/02
F-Term (40):
4G042DA02
, 4G042DB28
, 4G042DC03
, 4G042DD08
, 4G042DE03
, 4G042DE05
, 4G042DE07
, 4G047CA02
, 4G047CB09
, 4G047CC03
, 4G047CD03
, 4G048AA02
, 4G048AB01
, 4G048AC08
, 4G048AD03
, 4G048AE05
, 4G169AA01
, 4G169BA04A
, 4G169BA04B
, 4G169BB04A
, 4G169BB04B
, 4G169BC35B
, 4G169BC50A
, 4G169BC50B
, 4G169BC55B
, 4G169BC60B
, 4G169BD06A
, 4G169BD06B
, 4G169CA10
, 4G169EA01Y
, 4G169EC27
, 4G169FB07
, 4G169FB30
, 4G169HA02
, 4G169HB02
, 4G169HB06
, 4G169HC02
, 4G169HD04
, 4G169HE03
, 4G169HE06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
-
窒素含有金属酸化物光触媒の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-129451
Applicant:東北リコー株式会社
-
光触媒およびその製造方法、ならびに光触媒フィルム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-240343
Applicant:ソニー株式会社
-
複合光触媒体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-291995
Applicant:株式会社日本触媒
-
酸化チタンの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-326208
Applicant:東邦チタニウム株式会社
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Article cited by the Patent: