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J-GLOBAL ID：200903005329225914

ゴム製品の製造方法

Inventor： 杉谷 信 ,  村岡 清繁 ,  寺川 克美
Applicant, Patent owner： 住友ゴム工業株式会社 ,  住友電気工業株式会社 ,  住友電装株式会社 ,  東海ゴム工業株式会社
Agent (1)： 亀井 弘勝 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996113898
Publication number (International publication number)：1997302152
Application date： May. 08, 1996
Publication date： Nov. 25, 1997
Summary：

【要約】【課題】 ゴムの厚み等に関係なく内部まで均質に分散されたシリカ微粒子によって高強度に補強されたゴム製品や、シリカ微粒子を分散させる部分とそうでない部分との境界が明確に区切られたゴム製品、あるいは寸法精度の要求されるゴム製品を製造できる、新規なゴム製品の製造方法を提供する。【解決手段】 未加硫のゴムの有機溶媒溶液中に、アルコキシシラン化合物から、ゾル-ゲル法によってシリカ微粒子を生成することで、当該シリカ微粒子が均質に分散されたゴム組成物を得、このゴム組成物を成形、加硫してゴム製品を製造する。

Claim (excerpt)：

未加硫のゴムの有機溶媒溶液中に、一般式(1) :【化1】〔式中R1 、R2 、R3 およびR4 は、同一または異なる1価の有機基を示す。ただし、R1 、R2 、R3 およびR4 のうちの少なくとも1つはアルコキシ基である。〕で表されるアルコキシシラン化合物から、ゾル-ゲル法によってシリカ微粒子を生成する工程を有することを特徴とするゴム製品の製造方法。

IPC (4)：

C08L 21/00 KCX ,  C01B 33/18 ,  C08J 3/20 CEQ ,  C08K 3/34

FI (4)：

C08L 21/00 KCX ,  C01B 33/18 Z ,  C08J 3/20 CEQ B ,  C08K 3/34

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• ケイ素系ハイブリツド材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-317285   Applicant：鐘淵化学工業株式会社
• ポリウレタン・シリカハイブリット体の製造方法及びアルコールゾル溶液
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-269652   Applicant：工業技術院長, 三菱化成株式会社