Pat

J-GLOBAL ID：200903005501622386

撥水性皮膜の製造方法

Inventor： 穂積 篤 ,  加藤 祥文 ,  高井 治 ,  柿木 伸介
Applicant, Patent owner： 株式会社豊田自動織機製作所
Agent (1)： 高橋 祥泰
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995049148
Publication number (International publication number)：1996217898
Application date： Feb. 13, 1995
Publication date： Aug. 27, 1996
Summary：

【要約】【目的】 優れた撥水性と密着性とを有し,且つ透明で低温成膜可能な皮膜を得ることができる,撥水性皮膜の製造方法を提供すること。【構成】 高周波プラズマCVD法を用いて,パーフルオロアルキルシランを分解し,その分解物を透明な樹脂基板7の表面に堆積密着させて撥水性のフッ素含有膜を形成する。樹脂基板7としては,ポリカーボネート樹脂,アクリル樹脂等を用いる。高周波プラズマCVD法は,減圧下において,高周波プラズマを発生させる反応管1を有する高周波プラズマCVD装置9を用いて行なう。反応管1の中には,気化したパーフルオロアルキルシランが導入管6を通じて導入される。また,高周波プラズマCVD法を用いて,パーフルオロアルキルシランを分解すると共に酸素と反応させ,その反応生成物を樹脂基板7の表面に堆積密着させることもできる。

Claim (excerpt)：

高周波プラズマCVD法を用いて,パーフルオロアルキルシランを分解し,その分解物を基板の表面に堆積密着させることを特徴とする撥水性皮膜の製造方法。

IPC (4)：

C08J 7/00 306 ,  C08J 7/00 CEY ,  C08J 7/00 CFD ,  C23C 16/50

FI (4)：

C08J 7/00 306 ,  C08J 7/00 CEY ,  C08J 7/00 CFD ,  C23C 16/50

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 基板上に撥水性被膜を形成する方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-016332   Applicant：日本板硝子株式会社
• 物体の表面処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-297976   Applicant：株式会社シンクロン, 株式会社那須ニコン, 株式会社ニコン

Cited by examiner (2)

• 基板上に撥水性被膜を形成する方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-016332   Applicant：日本板硝子株式会社
• 物体の表面処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-297976   Applicant：株式会社シンクロン, 株式会社那須ニコン, 株式会社ニコン