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J-GLOBAL ID：200903005511414587

酸化物蛍光体エピタキシャル薄膜

Inventor：
高島 浩

About 高島 浩

, 
植田 和茂

About 植田 和茂

, 
伊藤 満

About 伊藤 満


Applicant, Patent owner：
独立行政法人産業技術総合研究所

About 独立行政法人産業技術総合研究所


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006190755
Publication number (International publication number)：2008019317
Application date： Jul. 11, 2006
Publication date： Jan. 31, 2008
Summary：
【課題】 ディスプレイ作製の基礎となる赤色、緑色、青色の3原色の発色が可能な、酸化物蛍光体エピタキシャル薄膜を提供することにある。【解決手段】 酸化物蛍光材料をターゲット材料としてパルスレーザー堆積法によって、600°C以上800°C以下の温度でエピタキシャル成長により基板上に薄膜が形成し、前記薄膜の形成後、酸素中または大気中で900°C以上1200°C以下の熱処理によって蛍光特性を向上させたことを特徴とする酸化物蛍光体エピタキシャル薄膜である。【選択図】 図5
Claim (excerpt)：
酸化物蛍光材料をターゲット材料としてパルスレーザー堆積法によって、600°C以上800°C以下の温度でエピタキシャル成長により基板上に薄膜が形成されたことを特徴とする酸化物蛍光体エピタキシャル薄膜。
IPC (9)：
C09K 11/00 ,  C09K 11/67 ,  C09K 11/66 ,  C09K 11/78 ,  C09K 11/08 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/10 ,  C23C 14/08 ,  C23C 14/28
FI (9)：
C09K11/00 A ,  C09K11/67 ,  C09K11/66 ,  C09K11/78 ,  C09K11/08 B ,  H05B33/14 Z ,  H05B33/10 ,  C23C14/08 K ,  C23C14/28
F-Term (28)：
3K107AA07 ,  3K107BB01 ,  3K107CC21 ,  3K107DD13 ,  3K107DD54 ,  3K107FF13 ,  3K107FF14 ,  3K107GG02 ,  3K107GG26 ,  3K107GG28 ,  3K107GG32 ,  4H001CA04 ,  4H001CF02 ,  4H001XA08 ,  4H001XA20 ,  4H001XA22 ,  4H001XA38 ,  4H001XA50 ,  4H001YA59 ,  4H001YA63 ,  4H001YA65 ,  4K029AA04 ,  4K029BA50 ,  4K029CA01 ,  4K029DB05 ,  4K029DB20 ,  4K029EA08 ,  4K029GA01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (4)
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Article cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

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