珪素化合物ガス中のシロキサンの分析方法とその装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：志賀正武 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997046594
Publication number (International publication number)：1998239223
Application date： Feb. 28, 1997
Publication date： Sep. 11, 1998
Summary：

【要約】【課題】半導体製造用に使用するモノシラン等の珪素化合物ガス中に微量混在するシロキサンを数ppb迄正確に分析可能にして、使用先で望まれる高純度の珪素化合物ガスを供給し得るよう、品質管理の向上を図る。【解決手段】珪素化合物ガスSの貯蔵容器1、試料採取管2、質量分析計6、キャリアーガス源He、流量計Fを備えたガス排出管8等を6方位置切り替え弁9に連結し、予め100°C以上の温度に加熱器4で加熱処理後冷却器3でー15°C〜ー144°Cに冷却した試料採取管2に、貯蔵容器1より珪素化合物ガスSを所定量流通せしめて、シロキサンを試料採取管2内に凝縮せしめて捕集する。ついで6方位置切り替え弁9を操作して管路を切り替え、キャリアーガスHeを試料採取管2に送給するとともに、試料採取管2を徐々に加熱し、気化した成分を質量分析計6に搬送し分析する。ー15°C以上の温度で気化するシロキサンを質量分析計6の質量数77で検出し測定する。

Claim (excerpt)：

加熱前処理した後の試料採取管に珪素化合物ガスを流通して該ガスを採取し、ついで試料採取管をシロキサンの沸点以下の温度に冷却した後に昇温して試料採取管より導出するガスを質量分析計に導き、該質量分析計でシロキサン量を測定することを特徴とする珪素化合物ガス中のシロキサンの分析方法。

IPC (4)：

G01N 1/22 , G01N 1/00 101 , G01N 1/28 , G01N 27/62

FI (4)：

G01N 1/22 X , G01N 1/00 101 R , G01N 27/62 F , G01N 1/28 K

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

シラン系ガス中のシロキサンの計測方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-066179 Applicant：大阪酸素工業株式会社
特開平4-278458
特開平2-047549

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