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J-GLOBAL ID：200903005864602425

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor： 稲部 陽樹 ,  漢那 慎一 ,  神田 博美
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (4)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005068172
Publication number (International publication number)：2006171667
Application date： Mar. 10, 2005
Publication date： Jun. 29, 2006
Summary：

【課題】 露光ラチチュードやラインエッジラフネス等の諸性能にすぐれ、さらに液浸露光に適用してもドライ露光時に比較して感度の劣化が小さく液浸液への酸の溶出が極めて少ないレジストを提供する。【解決手段】 (A)特定構造を側鎖に有する繰り返し単位を含有し、かつ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

(A)下記一般式(A)で示される基を側鎖に有する繰り返し単位を含有し、かつ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/039 ,  C08F 20/26 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F7/039 601 ,  C08F20/26 ,  G03F7/033 ,  H01L21/30 502P

F-Term (58)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  4J100AK32S ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AR11S ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA03R ,  4J100BA05S ,  4J100BA11P ,  4J100BA11S ,  4J100BA15P ,  4J100BA15S ,  4J100BA40P ,  4J100BA41P ,  4J100BB01P ,  4J100BB18P ,  4J100BC02Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC07Q ,  4J100BC07S ,  4J100BC08P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC08S ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC12Q ,  4J100BC12S ,  4J100BC43P ,  4J100BC52S ,  4J100BC53P ,  4J100BC53S ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• アルカリ現像用レジスト
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-213571   Applicant：株式会社東芝
• 国際公開2004-068242A1号パンフレット