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J-GLOBAL ID：200903005873463861

グレーティングパターン形成方法

Inventor： ビクター ミズラヒ ,  リン フレデリック モレノー
Applicant, Patent owner： アメリカン テレフォン アンド テレグラフ カムパニー
Agent (1)： 三俣 弘文
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993345565
Publication number (International publication number)：1994230208
Application date： Dec. 22, 1993
Publication date： Aug. 19, 1994
Summary：

【要約】【目的】 空間依存性として広範囲の関数形を指定することができるような空間依存性周期を有するグレーティングを形成する。【構成】 光化学波長λを有する電磁放射の2つの平行な同一直線上にないビームを発生し、これらのビームが角度φで交差するように媒質の一部にビームを照射することにより軸方向に周期的な干渉パターンを生成し、その間に、干渉パターンの局所的なコヒーレンスが保存されるように媒質に対して干渉パターンの照射部分を軸方向に移動させ、その間に、グレーティングパターンが準周期的であり空間的に変化する周期を有するように積λ×0.5csc(φ/2)を変化させる。

Claim (excerpt)：

軸方向を定める軸を有する感光性媒質を含む物品(18)上にグレーティングパターンを形成する方法において、光化学波長λを有する電磁放射の2つの平行な同一直線上にないビーム(15、16)を発生するステップと、前記2つのビームが角度φで交差するように前記媒質の少なくとも一部に前記ビームを照射することにより前記軸方向に周期的な干渉パターンを生成する照射ステップと、照射ステップ中に、干渉パターンの少なくとも局所的なコヒーレンスが保存されるように、前記媒質に対して干渉パターンの照射部分を軸方向に移動させる移動ステップと、移動ステップ中に、生成されるグレーティングパターンが準周期的であり、空間的に変化する周期を有するように、積λ×0.5csc(φ/2)を変化させる積変化ステップとからなることを特徴とするグレーティングパターン形成方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 回折格子プロツター
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-231955   Applicant：凸版印刷株式会社
• 特開昭62-109011
  
• 特開昭57-150805