Pat
J-GLOBAL ID：200903006016086880

電子線分析方法

Inventor：
村越 久弥

About 村越 久弥


Applicant, Patent owner：
株式会社日立製作所

About 株式会社日立製作所


Agent (1)： 作田 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001280892
Publication number (International publication number)：2002148215
Application date： Dec. 05, 1996
Publication date： May. 22, 2002
Summary：
【要約】【課題】 分析位置ずれのない正確な元素分析を行うことができる電子線分析装置を提供する。【解決手段】 検出効率が高い二次電子あるいは透過電子等の位置検出手段により試料変位量を計測して特性X線あるいはオージェ電子による分析を行う位置を補正する。
Claim (excerpt)：
電子線を異なる時間に試料を走査し試料からの信号に基づいて画像を形成する第1の画像形成工程と、前記画像から電子線のずれを特定する工程と、特定されたずれ量から電子線を補正する工程と、補正された電子線で試料を走査し試料から発生する特性X線を得る第2の信号取得工程と、前記第2の信号取得工程からの信号に基づいて試料の元素組成等の二次元分布像を形成する第2の画像形成工程と、を有することを特徴する電子線分析方法。
IPC (4)：
G01N 23/04 ,  G01N 23/225 ,  G01N 23/227 ,  H01J 37/252
FI (4)：
G01N 23/04 ,  G01N 23/225 ,  G01N 23/227 ,  H01J 37/252 A
F-Term (17)：
2G001AA03 ,  2G001BA05 ,  2G001BA07 ,  2G001BA09 ,  2G001BA11 ,  2G001CA01 ,  2G001CA03 ,  2G001FA10 ,  2G001GA01 ,  2G001GA06 ,  2G001GA11 ,  2G001HA07 ,  2G001HA09 ,  2G001HA13 ,  2G001JA03 ,  2G001JA12 ,  5C033PP04
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM