3次元形状測定方法及びその装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：鈴江武彦 , 河野哲 , 村松貞男 , 風間鉄也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004018483
Publication number (International publication number)：2005214653
Application date： Jan. 27, 2004
Publication date： Aug. 11, 2005
Summary：

【課題】被検査物に投影するパターンの光量を高速かつ適正に調整でき、安定した3次元形状の測定を行うこと。【解決手段】第1の光量Aと第2の光量Bとの各縞パターン光Pを所定の位相シフト量毎、例えば0[rad]、π/2[rad]、π[rad]、3π/2[rad]毎に位相シフトして被検査物1の表面上に投影して第1と第2の位相シフト画像データIa1(x,y)〜Ia4(x,y)、Ib1(x,y)〜Ib4(x,y)を取得し、これら位相シフト画像データから輝度が飽和する画素のコントラストをゼロに強制的に設定し、それ以外の各画素のうちコントラストの良い各画素に基づいて被検査物1の高さ情報h(x,y)を算出する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

被検査物に対して所定のパターン光を投影し、前記被検査物上に投影されたパターン像の変形量から前記被検査物の高さ情報を求める3次元形状測定方法において、少なくとも2つの光量毎に前記所定のパターン光を前記被検査物に対して投影し、かつ前記各光量毎にそれぞれ前記所定のパターン光を前記被検査物上に位相シフトさせて複数の位相シフト画像データを取得する第1の処理と、前記第1の処理により取得された前記複数の位相シフト画像データから輝度が飽和する画素以外の各画素のうちコントラストの良い前記各画素に基づいて前記被検査物の高さ情報を求める第2の処理と、を有することを特徴とする3次元形状測定方法。

IPC (3)：

G01B11/25 , G01B11/02 , G06T1/00

FI (4)：

G01B11/24 E , G01B11/02 H , G06T1/00 280 , G06T1/00 315

F-Term (33)：

2F065AA24 , 2F065AA53 , 2F065BB05 , 2F065CC25 , 2F065DD09 , 2F065FF07 , 2F065HH04 , 2F065HH12 , 2F065HH14 , 2F065JJ03 , 2F065JJ05 , 2F065JJ09 , 2F065JJ26 , 2F065LL21 , 2F065LL25 , 2F065NN03 , 2F065NN05 , 2F065NN17 , 2F065QQ11 , 2F065QQ23 , 2F065SS03 , 2F065SS13 , 2F065UU05 , 2F065UU07 , 5B057AA20 , 5B057BA02 , 5B057CA02 , 5B057CA08 , 5B057CA12 , 5B057CA16 , 5B057DA20 , 5B057DB03 , 5B057DC03

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

表面形状計測装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-190990 Applicant：株式会社高岳製作所

Cited by examiner (6)

三次元計測装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-304350 Applicant：シーケーディ株式会社
三次元計測装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-055733 Applicant：シーケーディ株式会社
物体の三次元形状計測方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-192452 Applicant：富士ファコム制御株式会社, 富士電機株式会社

Show all

Return to Previous Page