液処理装置及び液処理方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：金本哲男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997169552
Publication number (International publication number)：1999003851
Application date： Jun. 11, 1997
Publication date： Jan. 06, 1999
Summary：

【要約】【課題】ケーシングで囲まれた液処理装置内の雰囲気を工場排気系などに排気することなく,循環再使用して工場排気系への負担を軽減する。【解決手段】現像処理装置DEV1のケーシング61及びレジスト液塗布装置COT1のケーシング71の内部の雰囲気は排気管81から導入管50を経由してフィルタ装置101へ導入される。気液接触空間を有するフィルタ装置101において清浄化及び温湿度が調整された空気は送出管51から壁ダクト46を経由してケーシング61,71の内部へ戻される。

Claim (excerpt)：

ケーシング内に装備された処理容器内で被処理基板を保持しながら回転させる回転載置台と,前記回転載置台上の被処理基板の表面に対して処理液を供給する供給機構とを有する液処理装置において,前記ケーシング外に配置される不純物除去装置を具備し,当該不純物除去装置は,この不純物除去装置の取り入れ口から導入された対象気体を不純物除去液と接触させて清浄化する清浄部と,当該清浄部を通過した気体の温湿度を調整する温湿度調整部とを備え,前記ケーシング内の排気を行う排気系統には,排気中の液体を気体と分離する気液分離手段が設けられ,前記気液分離手段における気体側出口と,前記不純物除去装置の取り入れ口とが接続され,前記温湿度調整部を通過した気体を送出する送出口が,前記ケーシング内に清浄気体を供給する供給系統に接続されたことを特徴とする,液処理装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03F 7/16 502 , G03F 7/30 502

FI (4)：

H01L 21/30 564 C , G03F 7/16 502 , G03F 7/30 502 , H01L 21/30 569 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-332751 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
特開昭52-085058
特開昭49-101429

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