Pat
J-GLOBAL ID:200903006180022370
可視光型光触媒及びその製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
塩澤 寿夫 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000113147
Publication number (International publication number):2001212457
Application date: Aug. 13, 1999
Publication date: Aug. 07, 2001
Summary:
【要約】アナターゼ型二酸化チタン等の酸化物半導体であって安定した酸素欠陥を有する可視光照射下で活性を有する触媒。酸化物半導体を水素プラズマ処理または希ガス類元素プラズマ処理する方法であって、処理系内への大気の侵入が実質的にない状態で上記処理を行う可視光型光触媒の製造方法。上記の触媒を基材表面に設けた物品。少なくとも可視光線を含む光を照射した上記の触媒に被分解物を接触させる物質の分解方法。可視光線も利用可能な新たな光触媒及びこの光触媒を利用して有機物や細菌を含む種々の物質を光分解して除去する方法が提供される。
Claim (excerpt):
安定した酸素欠陥を有する二酸化チタン酸化物であって、真空中、77K、暗黒下で測定されたESRにおいて、g値が2.003〜4であるシグナルが観測され、かつこのg値が2.003〜4であるシグナルは真空中、77Kにおいて少なくとも420nm〜600nm範囲の波長の光を照射下で測定した場合、上記暗黒下で測定された場合よりシグナルの強度が大きいことを特徴とする可視光照射下で活性を有する触媒。
IPC (12):
B01J 21/06
, A61L 9/00
, A61L 9/18
, B01D 53/86
, B01D 53/94
, B01J 35/02 ZAB
, B01J 37/02 301
, B01J 37/08
, B01J 37/34
, C01G 23/053
, C03C 17/25
, H01L 31/04
FI (13):
B01J 21/06 A
, A61L 9/00 C
, A61L 9/18
, B01J 35/02 ZAB J
, B01J 37/02 301 M
, B01J 37/08
, B01J 37/34
, C01G 23/053
, C03C 17/25 A
, B01D 53/36 J
, B01D 53/36 G
, B01D 53/36 102 G
, H01L 31/04 Z
F-Term (69):
4C080AA07
, 4C080BB05
, 4C080BB06
, 4C080CC01
, 4C080HH05
, 4C080JJ04
, 4C080KK08
, 4C080LL02
, 4C080MM02
, 4D048AA06
, 4D048AA19
, 4D048AA21
, 4D048AB01
, 4D048AB02
, 4D048AB03
, 4D048BA07X
, 4D048BA13X
, 4D048BA41X
, 4D048BB01
, 4D048BB03
, 4D048EA01
, 4G047CA02
, 4G047CA10
, 4G047CB04
, 4G047CC03
, 4G047CD02
, 4G047CD03
, 4G047CD07
, 4G059AA01
, 4G059AC30
, 4G059EA04
, 4G059EA11
, 4G059EB09
, 4G069AA02
, 4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069BA04A
, 4G069BA04B
, 4G069BA14A
, 4G069BA14B
, 4G069BA16A
, 4G069BA48A
, 4G069CA01
, 4G069CA07
, 4G069CA08
, 4G069CA10
, 4G069CA11
, 4G069CA13
, 4G069CA17
, 4G069CC33
, 4G069EA01X
, 4G069EA01Y
, 4G069EA08
, 4G069EA14
, 4G069EB18X
, 4G069EB18Y
, 4G069EC22X
, 4G069EC22Y
, 4G069EC27
, 4G069FA01
, 4G069FA03
, 4G069FB29
, 4G069FB58
, 4G069FB80
, 4G069FC07
, 5F051AA14
, 5F051FA04
, 5F051FA30
, 5F051HA15
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
-
空気中に含まれる窒素酸化物濃度の低減方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-339757
Applicant:工業技術院長, エコデバイス株式会社
-
品質保持剤及びその使用方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-180644
Applicant:工業技術院長, 丸勝産業株式会社, 垰田博史, 渡辺栄次, 野浪亨, 深谷光春
-
光触媒体およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-207482
Applicant:シャープ株式会社, 大阪府
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