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J-GLOBAL ID：200903006239063385
不飽和ビシクロ〔2.2.1〕ヘプタン誘導体の製造方法
山川 文雄
, About 山川 文雄
坪内 俊之
, About 坪内 俊之
小田 純弘
About 小田 純弘
Applicant, Patent owner：
出光興産株式会社
About 出光興産株式会社
Agent (1)： 東平 正道
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000085600
Publication number (International publication number)：2001270841
Application date： Mar. 27, 2000
Publication date： Oct. 02, 2001
Summary：
【要約】【課題】 ノルボルナンアルコール類を含有する原料を脱水反応させて不飽和ビシクロ〔2.2.1〕化合物を製造する方法において、目的物の収率が改良された工業的に有利な方法を提供する。【解決手段】 ノルボルナンアルコール類を含有する原料を脱水反応するにあたり、ノルボルナンアルコール類よりも20°C以上沸点の高い化合物の原料中の濃度を3質量%以下に調整した後に反応させる不飽和ビシクロ〔2.2.1〕ヘプタン誘導体の製造方法である。
Claim (excerpt)：
ノルボルナンアルコール類を含有する原料を脱水反応するにあたり、ノルボルナンアルコール類よりも20°C以上沸点の高い化合物の原料中の濃度を3質量%以下に調整した後に反応させることを特徴とする不飽和ビシクロ〔2.2.1〕ヘプタン誘導体の製造方法。
IPC (3)：
FI (3)：
F-Term (3)：
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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オリゴマーの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-293785 Applicant：出光興産株式会社 -
オリゴマーの製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-155423 Applicant：出光興産株式会社 -
特公平7-103387
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