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J-GLOBAL ID:200903006258702747
ヒドロキシフェニル基含有有機けい素化合物およびその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999171113
Publication number (International publication number):2000169482
Application date: Jun. 17, 1999
Publication date: Jun. 20, 2000
Summary:
【要約】【課題】 同一分子内にヒドロキシフェニル基と脂肪族不飽和結合を含有する新規な有機ケイ素化合物およびその製造方法を提供する。【解決手段】 一般式:【化1】[式中、Xは脂肪族不飽和基含有1価炭化水素、Zは-C(O)O-で示されるカルボニルオキシ基またはフェニレン基、Yは置換もしくは非置換のヒドロキシフェニル基、R1は炭素原子数が2以上の同種または異種の二価炭化水素基、Rは脂肪族不飽和結合を含まない同種または異種の一価炭化水素基、Aは炭素原子数が1以上の二価炭化水素基または式:-R2-O-R2-(式中、R2は二価炭化水素基である。)で示される基である。mおよびpは0または1であり、nは0〜2であり、qは0〜7の整数である。]で示されるヒドロキシフェニル基含有有機けい素化合物、およびその製造方法。
Claim (excerpt):
一般式:【化1】[式中、Xはアルケニル基、Zは-C(O)O-で示されるカルボニルオキシ基またはフェニレン基、Yは置換もしくは非置換のヒドロキシフェニル基、R1は炭素原子数が2以上の同種または異種の二価炭化水素基、Rは脂肪族不飽和結合を含まない同種または異種の一価炭化水素基、Aは炭素原子数が1以上の二価炭化水素基または式:-R2-O-R2-(式中、R2は二価炭化水素基である。)で示される基である。mおよびpは0または1であり、nは0〜2であり、qは0〜7の整数である。]で示されるヒドロキシフェニル基含有有機けい素化合物。
IPC (3):
C07F 7/08
, C08G 77/14
, C08G 77/20
FI (3):
C07F 7/08 X
, C08G 77/14
, C08G 77/20
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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特表平6-506946
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エポキシ樹脂改質剤及び半導体封止用樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-345797
Applicant:チッソ株式会社
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特開平2-166123
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