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J-GLOBAL ID：200903006351486507

蒸着膜形成方法

Inventor： 田島 基史 ,  中井 健人 ,  櫻井 芳昭
Applicant, Patent owner： 株式会社クボタ ,  ホーチキ株式会社 ,  大阪府
Agent (1)： 三枝 英二 (外10名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997192165
Publication number (International publication number)：1999036062
Application date： Jul. 17, 1997
Publication date： Feb. 09, 1999
Summary：

【要約】【課題】同一基板上に複数の異なる蒸着膜を形成するための簡便な方法であって、特に、複数の微小な感応膜を形成したガスセンサを高精度に形成するために適した方法を提供する。【解決手段】基板の蒸着膜形成部上に、開口部を有する蒸着物質遮断用マスクの開口部を位置合わせし、該マスクを介して蒸着膜を析出させ、次いで、該マスクを移動させて他の蒸着膜形成部にマスク開口部の位置合わせし、蒸着材料を変更し、該マスクを介して他の蒸着膜を析出させる工程を所定回数行い、その後、析出した蒸着膜の最終的に蒸着膜を残存させるべき部分にレジスト膜を形成した後、不要部分の蒸着膜をエッチングし、レジスト膜を除去することを特徴とする蒸着膜形成方法。

Claim (excerpt)：

基板の蒸着膜形成部上に、開口部を有する蒸着物質遮断用マスクの開口部を位置合わせし、該マスクを介して蒸着膜を析出させ、次いで、該マスクを移動させて他の蒸着膜形成部にマスク開口部の位置合わせし、蒸着材料を変更し、該マスクを介して他の蒸着膜を析出させる工程を所定回数行い、その後、析出した蒸着膜の最終的に蒸着膜を残存させるべき部分にレジスト膜を形成した後、不要部分の蒸着膜をエッチングし、レジスト膜を除去することを特徴とする蒸着膜形成方法。