傾斜層の製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：八田幹雄 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995330481
Publication number (International publication number)：1996225948
Application date： Dec. 19, 1995
Publication date： Sep. 03, 1996
Summary：

【要約】【解決手段】傾斜層を製造するプラズマCVD法であり、かかる層の傾斜は、被覆プロセス中に少なくとも1つの出力パラメーターを変化させることにより、層の成長方向に製造される。【効果】パルス法でプラズマ出力を供給し、パルス振幅、パルス期間および/またはパルス間隔に関するプラズマ出力パラメーターを変化させることによって層の傾斜を調整することにより、高精度で薄層を形成できる。

Claim (excerpt)：

層を製造するプラズマCVD法、ここで、該層の傾斜が被覆プロセス中に少なくとも1つのプラズマ出力パラメーターを変化させることにより該層の成長方向に作られる、において、プラズマパルスCVD法で出力パルス列としてプラズマ出力を供給し、ここで、該パルス列はパルス振幅、パルス幅およびパルス間隔のパラメーターを有する;さらに該パルス振幅、パルス幅およびパルス間隔の少なくとも1つを変化させることにより、該層の傾斜を調整するステップを含むことを特徴とするプラズマCVD法。

IPC (2)：

C23C 16/50 , B32B 9/00

FI (2)：

C23C 16/50 , B32B 9/00 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開昭60-215769
ラジカルの制御方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-241487 Applicant：名古屋大学長
実質的に平坦な基板を備えた光導波体とその製作のための処理法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-273410 Applicant：カール-ツァイス-スティフツング, ホフマン-ラロッシュアーゲー

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