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J-GLOBAL ID：200903006423668796

位相シフトマスクの検査方法およびその方法に用いる検査装置

Inventor： 楠瀬 治彦
Applicant, Patent owner： 三菱電機株式会社
Agent (1)： 深見 久郎 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994208463
Publication number (International publication number)：1995159978
Application date： Sep. 01, 1994
Publication date： Jun. 23, 1995
Summary：

【要約】【目的】 位相シフトマスクにおける位相シフタ部による位相シフト量および光透過率を正確に求める方法と装置を提供する。【構成】 紫外線用光学部材(4a〜4g,15,16など)を用いてシアリング方式のマッハツェンダー干渉計を構築し、フォトリソグラフィにおいて用いられる光の波長と同一の波長を有する光を用いて、位相シフタ部(3)と光透過部(1b)を通過した光を干渉させて得られる干渉光強度信号から直接的かつ非破壊的に位相シフタ部による位相シフト量および光透過率を測定する。

Claim (excerpt)：

位相シフタ部と光透過部とを含む位相シフトマスクに紫外線を照射する工程と、前記位相シフトマスクを透過した紫外線を、第1光路を通過する第1光束と、第2光路を通過する第2光束とに分岐する工程と、前記第1光路と前記第2光路との間に光学くさびを用いて相対的な光路長差を生じさせ、前記第1光束と前記第2光束とを重ね合わせて干渉光を形成する工程と、前記干渉光の、前記第1光束の位相シフタ部透過領域と前記第2光束の光透過部透過領域とが重ね合わされた領域に、測光ターゲットの位置決めを行なう工程と、前記測光ターゲットを用いて、前記光学くさびの第1の移動によって、前記光路長差の変化に依存する前記干渉光による第1光強度信号を測定する工程と、前記干渉光の、前記第1光光束の光透過部透過領域と前記第2光束の光透過部透過領域とが重ね合わされた領域に前記測光ターゲットの位置決めを行なう工程と、前記測光ターゲットを用いて、前記光学くさびの第2の移動によって前記光路長差の変化に依存する前記干渉光による第2光強度信号を測定する工程と、前記第1光強度信号と前記第2光強度信号とに基づいて、前記位相シフトマスクの光学特性を求める工程と、を備えた位相シフトマスクの検査方法。

IPC (4)：

G03F 1/08 ,  G01M 11/00 ,  G01N 21/45 ,  G01N 21/59

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• フォトマスク検査装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-034107   Applicant：株式会社ニコン