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J-GLOBAL ID：200903006473038254

撮像装置

Inventor：
田代 和昭

About 田代 和昭

, 
海部 紀之

About 海部 紀之


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 西山 恵三 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002132810
Publication number (International publication number)：2003329777
Application date： May. 08, 2002
Publication date： Nov. 19, 2003
Summary：
【要約】【課題】 放射線の影響による画質の劣化を課題とする。【解決手段】 放射線パルスが所定の間隔で順次発生される撮像装置であって、被写体像を撮像する複数の画素を有する撮像領域と、前記撮像領域を走査するための走査手段と、前記放射線パルスが発生していない期間に、前記走査回路が前記撮像領域を走査するように制御する制御手段とを有することを特徴とする撮像装置を提供する。
Claim (excerpt)：
放射線パルスが所定の間隔で順次発生される撮像装置であって、被写体像を撮像する複数の画素を有する撮像領域と、前記撮像領域を走査するための走査手段と、前記放射線パルスが発生していない期間に、前記走査回路が前記撮像領域を走査するように制御する制御手段と、を有することを特徴とする撮像装置。
IPC (4)：
G01T 1/20 ,  A61B 6/00 300 ,  H04N 5/32 ,  H04N 5/335
FI (4)：
G01T 1/20 G ,  A61B 6/00 300 S ,  H04N 5/32 ,  H04N 5/335 Z
F-Term (23)：
2G088EE01 ,  2G088FF02 ,  2G088FF04 ,  2G088FF05 ,  2G088FF06 ,  2G088GG19 ,  2G088JJ05 ,  4C093AA01 ,  4C093EA02 ,  4C093EB12 ,  4C093EB13 ,  4C093EB17 ,  4C093EB20 ,  4C093FA19 ,  4C093FA32 ,  4C093FA43 ,  5C024AX12 ,  5C024AX16 ,  5C024AX17 ,  5C024GX01 ,  5C024GY31 ,  5C024HX01 ,  5C024JX41
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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