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J-GLOBAL ID：200903006508463344

無機粉末を疎水性にする効率的な方法

Inventor： ジョン・アイバンビー・オサヒニ ,  ジョン・ピーター・ベインビシウス ,  スタンリー・テレサ・ブドル
Applicant, Patent owner： ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
Agent (1)： 生沼 徳二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996134043
Publication number (International publication number)：1997110415
Application date： May. 29, 1996
Publication date： Apr. 28, 1997
Summary：

【要約】【課題】 化学量論に近い量の処理剤を使用しながら、短い滞留時間でほどほどの温度で作業することのできる、無機粉末を疎水性にするための経済的な方法の提供。【解決手段】 原料無機粉末を、流動化処理温度よりも低い沸点をもつ少なくとも1種のシリル化剤と共に機械的に流動化処理する。原料無機粉末は、好ましくはヒュームドシリカである。この処理は、連続式でも回分式でも実施できる。

Claim (excerpt)：

原料無機粉末及び流動化処理温度よりも低い沸点をもつ少なくとも1種のシリル化剤を機械的に流動化することからなる、原料無機粉末の処理方法。

IPC (2)：

C01B 33/18 ,  C09C 3/12 PBU

FI (2)：

C01B 33/18 C ,  C09C 3/12 PBU

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 疎水性微細シリカおよびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-152382   Applicant：株式会社トクヤマ
• 特開昭56-164008
  
• 疎水性シリカ粉体、その製法とそれを含む電子写真用現像剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-336790   Applicant：三菱マテリアル株式会社
• 特開昭56-164008
  
• 特開昭56-164008