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J-GLOBAL ID：200903006693877320

フライ調理装置

Inventor： 小越 憲泰
Applicant, Patent owner： 株式会社ハイサーブウエノ
Agent (1)： 牛木 護
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997204932
Publication number (International publication number)：1999047002
Application date： Jul. 30, 1997
Publication date： Feb. 23, 1999
Summary：

【要約】【課題】 槽に収容した油を加熱するフライ調理装置において、揚げかす等の除去を容易に行えるようにする。油の劣化を防止するための還元水を生成するための還元水生成装置を安全に設ける。【解決手段】 槽12の底面14に機枠11の前部より後部に向けて一方向に向けた凸条15を複数並設して波形とし、底面14の下方にガスバーナ22を設ける。凸条15の長手方向の前部に該凸条15の底部17より低い凹所18を連設する。凹所18には篭19を着脱可能に設ける。槽12にスプレー等した水を還元する油還元装置29は印加電極30,31の外側に接地電極32を設けてなる。揚げかす等を底部17より篭19に落し込んで簡単に除去できる。鉄箸等を使用しても鉄箸等が印加電極30,31に接触することはなく、電気的ショートの虞をなくすことができる。

Claim (excerpt)：

熱源により槽に収容した油を加熱するフライ調理装置において、前記槽の底面は一方向に向けた凸条を複数並設してなり、これら凸条の長手方向の一端に該凸条の底部より低い凹所を連設し、前記底面下方に熱源を設けたことを特徴とするフライ調理装置。

IPC (2)：

A47J 37/12 391 ,  A47J 37/12 321

FI (2)：

A47J 37/12 391 ,  A47J 37/12 321

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭62-180714
  
• フライ調理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-110568   Applicant：早川英雄