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J-GLOBAL ID：200903006884568513
電子ビーム励起負イオン源及び負イオン発生方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
須山 佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993291061
Publication number (International publication number)：1995142020
Application date： Nov. 19, 1993
Publication date： Jun. 02, 1995
Summary：
【要約】【目的】 効率よく大量の負イオンを安定的に発生させることができ、低コストで連続運転可能な電子ビーム励起負イオン源及び負イオン発生方法を提供する。【構成】 電子ビーム発生機構10の陰極12と陽極14との間に放電を生じさせてプラズマを発生させる。そして、加速電極15に印加された加速電圧によって、このプラズマから電子を引き出し、加速して電子ビームを発生させる。水素プラズマ室30においては、水素ガス導入口31から水素ガスを導入するとともに、排気口32から排気を行って、内部を所定圧力の水素ガス雰囲気に設定しておく。
Claim (excerpt)：
プラズマ発生領域で発生させたプラズマから電子を引き出して加速し、電子ビームを発生させる電子ビーム発生機構と、負イオンを生成するガスのガス供給機構を有し、このガス供給機構から供給されたガスに、前記電子ビーム発生機構で発生させた電子ビームを照射して負イオンを発生させるプラズマ室と前記プラズマ室内から負イオンを引き出す引き出し機構とを具備したことを特徴とする電子ビーム励起負イオン源。
IPC (6)：
H01J 37/08
, G21B 1/00
, G21K 1/00
, H01J 27/14
, H01J 27/20
, H05H 7/08
Cited by examiner (6)
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