Pat
J-GLOBAL ID：200903006959646663

有機ヒ素化合物汚染土壌の洗浄剤および浄化方法

Inventor：
徳永 修三

About 徳永 修三

, 
本間 憲之

About 本間 憲之

, 
楠田 雅之

About 楠田 雅之

, 
大貫 公司

About 大貫 公司


Applicant, Patent owner：
独立行政法人産業技術総合研究所

About 独立行政法人産業技術総合研究所

, 
三井造船株式会社

About 三井造船株式会社


Agent (1)： 石井 博樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005157414
Publication number (International publication number)：2006326551
Application date： May. 30, 2005
Publication date： Dec. 07, 2006
Summary：
【課題】 例えばリン酸水溶液による洗浄では高い有機ヒ素化合物除去効果が得られない汚染土壌についても、有機ヒ素化合物除去率を飛躍的に向上させることができる新たな有機ヒ素化合物汚染土壌の洗浄剤および浄化方法を提供すること。【解決手段】 本発明は、水溶性有機溶媒と酸を主成分とする水溶液により構成される有機ヒ素化合物汚染土壌の洗浄剤である。ここで、水溶性有機溶媒としてはメタノール、エタノール等のアルコール類の他、酢酸、アセトン、アセトニトリル等が挙げられる。酸としてはリン酸および、その他の鉱酸、例えば、塩酸、硫酸等が挙げられる。【選択図】図2
Claim (excerpt)：
水溶性有機溶媒と酸を主成分とする溶液により構成される有機ヒ素化合物汚染土壌の洗浄剤。
IPC (6)：
B09C 1/02 ,  B09C 1/08 ,  B01D 11/02 ,  B01D 15/00 ,  C09K 3/00 ,  C11D 7/08
FI (5)：
B09B3/00 304K ,  B01D11/02 A ,  B01D15/00 K ,  C09K3/00 S ,  C11D7/08
F-Term (26)：
4D004AA41 ,  4D004AB03 ,  4D004AB05 ,  4D004CA40 ,  4D004CB50 ,  4D004CC04 ,  4D004CC12 ,  4D017AA06 ,  4D017BA04 ,  4D017CA03 ,  4D017CB01 ,  4D017DA07 ,  4D056AB17 ,  4D056AC06 ,  4D056AC22 ,  4D056BA08 ,  4D056CA14 ,  4D056CA17 ,  4D056CA20 ,  4D056CA31 ,  4H003DA20 ,  4H003DB01 ,  4H003DC02 ,  4H003EA03 ,  4H003EA04 ,  4H003ED28
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
  • 特公昭60-42171号公報
  • 汚染土壌の修復方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-322530   Applicant：工業技術院長
  • 特許第3407039号公報
Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM