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J-GLOBAL ID：200903006973840766

原子層ディポジション用の垂直に積み重ねられたプロセス反応器およびクラスタツールシステム

Inventor： ガドジル、プラサド・エヌ ,  セイデル、トーマス・イー
Applicant, Patent owner： ジーナス・インコーポレイテッド
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外4名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000507861
Publication number (International publication number)：2001514440
Application date： Aug. 26, 1998
Publication date： Sep. 11, 2001
Summary：

【要約】【解決手段】 薄型でコンパクトな原子層ディポジション反応器(LP-CAR)(33)は、単一基板(45)または基板の平面アレイ(72)を取り扱うように適合された基板処理領域と、基板をLP-CARにロードし、基板をLP-CARからアンロードする弁付きロードおよびアンロードポート(53)とを備えた薄型本体を持っている。本体は、第1の端部でガスまたは蒸気を注入するように適合された注入口(55)と、第2の端部でガスおよび蒸気を排気するように適合された排気口を持っている。LP-CARは任意の水平寸法(L,W)よりも大きくない、さらに好ましくは任意の水平寸法の3分の2よりも大きくない外部高(h)を持ち、独特なシステムアーキテクチャを促進する。内部処理領域は、水平の大きさの4分の1よりも大きくない垂直の大きさを持つことにより区別され、高速ガス交換を促進する。このようなコンパクト反応器を複数垂直に積み重ねることができる。

Claim (excerpt)：

薄型でコンパクトな原子層ディポジション反応器(LP-CAR)において、 高さは幅または高さのいずれか以下であり、長さと高さが相互に対向する第1および第2の側部を規定し、幅と高さが相互に対向する第1および第2の端部を規定する、長さ、幅および高さを有する本体と、 処理中に基板を封入するように適合された、本体内の基板処理領域と、 基板処理領域に対して開口し、基板を基板処理領域に、また基板処理領域から移動させるために適合された、第1の側部中のロード/アンロードポートと、 処理中に基板をサポートし、高さ方向に向かって基板処理領域に伸張可能なリトラクタブルサポート架台と、 第1の側部に接続され、閉位置において真空シールを果たすロード/アンロード開口を開閉するように適合された遠隔操作可能な弁と、 第1の端部でガスまたは蒸気を注入するように適合された注入口と、 第2の端部でガスおよび蒸気を排出する排気口とを具備する薄型でコンパクトな原子層ディポジション反応器。

IPC (2)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/44

FI (2)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/44 B

F-Term (19)：

4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030EA06 ,  4K030EA11 ,  4K030FA00 ,  4K030GA12 ,  4K030KA01 ,  4K030KA02 ,  4K030KA09 ,  4K030KA10 ,  4K030LA15 ,  5F045DP19 ,  5F045EB09 ,  5F045EB10 ,  5F045EB12 ,  5F045EG01 ,  5F045EK05 ,  5F045EM01 ,  5F045EN04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 気相成長装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-129799   Applicant：ソニー株式会社
• 半導体処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-232994   Applicant：株式会社日立製作所
• 半導体装置製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-240477   Applicant：株式会社半導体エネルギー研究所