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J-GLOBAL ID：200903006974133435

高純度シリカ水性ゾル及びその製造方法

Inventor：
前島 邦明

About 前島 邦明

, 
宮部 慎介

About 宮部 慎介


Applicant, Patent owner：
日本化学工業株式会社

About 日本化学工業株式会社


Agent (1)： 曾我 道照 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998356433
Publication number (International publication number)：2000178020
Application date： Dec. 15, 1998
Publication date： Jun. 27, 2000
Summary：
【要約】【課題】 アルコールのような溶剤を使用せずにアルキルシリケートよりシリカゾルを製造する。【解決手段】 シリカ濃度1〜8モル/リットルで、0.0018〜0.18モル/リットルの酸濃度と2〜30モル/リットルの範囲の水濃度で、溶剤を使用しないでアルキルシリケートを酸触媒で加水分解した後、シリカ濃度が0.2〜1.5モル/リットルの範囲となるように水希釈し、pHが7以上となるようにアルカリ触媒を加え加熱させて粒子成長させることを特徴とする。
Claim (excerpt)：
アルキルシリケートより得られるシリカゾルであって、該シリカゾル粒子のシアーズ法による粒子径の測定値(X1)と窒素吸着BET法による粒子径(X2)との比Y(X1/X2)が0.5〜1.5であり、かつその粒子径が3〜300nmの範囲であることを特徴とする高純度シリカ水性ゾル。
IPC (2)：
C01B 33/14 ,  C01B 33/141
FI (2)：
C01B 33/14 ,  C01B 33/141
F-Term (20)：
4G072AA28 ,  4G072BB05 ,  4G072CC01 ,  4G072DD05 ,  4G072DD06 ,  4G072DD07 ,  4G072EE01 ,  4G072GG01 ,  4G072HH30 ,  4G072KK01 ,  4G072KK03 ,  4G072LL06 ,  4G072MM01 ,  4G072PP01 ,  4G072PP02 ,  4G072RR05 ,  4G072TT01 ,  4G072UU07 ,  4G072UU09 ,  4G072UU30
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (10)
  • 酸性シリカゾルの製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-235026   Applicant：日産化学工業株式会社
  • シリカゾルの製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-033705   Applicant：日産化学工業株式会社
  • 特開平1-290523
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