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J-GLOBAL ID：200903007044874598
マスクデータ作成方法及びその作成装置、マスクデータ補正方法及びマスクデータ補正装置コンピュータ読み取り可能な記録媒体
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998048368
Publication number (International publication number)：1999102062
Application date： Feb. 27, 1998
Publication date： Apr. 13, 1999
Summary：
【要約】【課題】 短時間で補正の必要な全てのパターンについて一連のプロセスを通したプロセス変換差を求め、光近接効果を補正したマスクデータを作成できるマスクデータ生成方法を提供すること。【解決手段】 設計パターンから補正対象のパターン種類を抽出するに際して補正対象エッジを抽出し、各補正対象エッジから垂直方向に光近接効果の及ぶ範囲の一次元的配置を取出し、この配置をパターン配置の一種類としてレイアウトに含まれるパターン配置種類を全て抽出し、抽出したパターン配置について作成したテストマスクを用い製造プロセスを通してウェハ上にパターンを形成し、ウェハ上の各パターンについてプロセス変換差を測定し、測定されたプロセス変換差若しくは該プロセス変換差を元にして算出した値を、設計パターン中の対応するパターンを補正する補正値として、この補正値を用いて設計データを補正する。
Claim (excerpt)：
設計パターンから補正対象のパターン種類を抽出するに際して補正対象エッジを抽出する工程と、各補正対象エッジから垂直方向に光近接効果の及ぶ範囲(距離Aとする)の一次元的配置を取出する工程と、この配置をパターン配置の一種類としてカウントし、レイアウトに含まれるパターン配置種類を全て抽出する工程と、抽出したパターン配置についてテストマスクを作成する工程と、このテストマスクを用い製造プロセスを通してウェハ上にパターンを形成する工程と、ウェハ上の各パターンについてプロセス変換差を測定する工程と、測定されたプロセス変換差若しくは該プロセス変換差を元にして算出した値を、設計パターン中の対応するパターンを補正する補正値とする工程と、この補正値を用いて設計データを補正する工程とを備えたことを特徴とするマスクデータ作成方法。
IPC (3)：
G03F 1/08
, H01L 21/00
, H01L 21/027
G03F 1/08 A
, H01L 21/00
, H01L 21/30 502 V
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 541 M
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (2)
Article cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (1)
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