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J-GLOBAL ID:200903007080516738
欠陥検査方法とその装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
石原 勝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996071720
Publication number (International publication number):1997257720
Application date: Mar. 27, 1996
Publication date: Oct. 03, 1997
Summary:
【要約】【課題】 欠陥部分の反射・透過光と正常部分の反射・透過光との弁別精度を向上し、且つ、微小な欠陥を検出できる欠陥検査方法とその装置の提供。【解決手段】 横断面がライン状の光束を出すライン光源2、3a、3、4と、ライン光源2、3a、3、4から受光した横断面がライン状の光束を透過拡散してライン状二次光源を形成する光拡散板5と、前記ライン状二次光源からの光を被検査物1の検査面にライン状に照射する光学系6と、前記検査面からの所定方向へのライン状反射光102または被検査物1からの所定方向へのライン状透過光103を受光するレンズ7、9と、受光したライン状反射光102またはライン状透過光103の光量を検出し、検出した光量を閾値と比較して前記検査面の欠陥を検出する信号処理部とを有する。
Claim (excerpt):
透過する光を拡散する光拡散板または受光部分が蛍光を発する蛍光板に横断面がライン状の光束を照射して前記光拡散板または前記蛍光板上にライン状二次光源を形成し、前記ライン状二次光源からの光を被検査物の検査面にライン状に照射し、前記検査面から所定方向に反射するライン状反射光または前記被検査物を所定方向に透過するライン状透過光を受光して光量の変化を検出し、検出した光量の変化から前記被検査物の検査面の欠陥を検出することを特徴とする欠陥検査方法。
IPC (2):
FI (3):
G01N 21/88 G
, G01N 21/88 J
, G01N 21/49 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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位置検出用光学装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-078731
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
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ハードディスク又はウエハーの検査方法及び検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-183214
Applicant:長瀬産業株式会社
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