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J-GLOBAL ID：200903007112550178

ナノインプリント用モールドおよび記録媒体

Inventor：
桑原 孝介

About 桑原 孝介

, 
安藤 拓司

About 安藤 拓司

, 
萩野谷 千積

About 萩野谷 千積


Applicant, Patent owner：
株式会社日立製作所

About 株式会社日立製作所


Agent (1)： 井上 学
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007171412
Publication number (International publication number)：2009006619
Application date： Jun. 29, 2007
Publication date： Jan. 15, 2009
Summary：
【課題】 本発明は、被転写体全面に一回の加圧で微細構造を転写でき、ベース層の分布を均一と出来るナノインプリント用モールド、および本モールドを適用して生産される記録媒体を提供することを課題とする。【解決手段】 本発明は、被転写体、またはモールドの複数の箇所に樹脂材料を配し、モールドによって前記樹脂材料を押し広げることでモールド上の形状を前記樹脂材料に転写するナノインプリントに用いるモールドであって、前記モールドが形状,間隔の何れが異なる凹凸形状を有する複数の領域を有し、前記の個々の樹脂材料が押し広げられる際のモールド面内方向における形状をAとして、少なくともモールド表面の凹凸形状を有して樹脂材料に接するように設計された領域の中から任意に選択するAの領域において、モールド凹部の面積の割合が一定であるナノインプリント用モールドを用いることを特徴とする。【選択図】図3
Claim (excerpt)：
凹凸パターンが形成されたパターン形成領域を表面に有するインプリントモールドにおいて、 前記パターン形成領域は、形状,間隔の何れが異なる凹凸パターンが形成された複数の領域を有し、 前記パターン形成領域よりも小さく、かつ、前記パターン形成領域の複数の凹部及び凸部が含まれる大きさの所定の領域Aを仮定した場合、前記パターン形成領域内で任意に選択された箇所における領域A内の凹部の開口面積又は体積と、異なる箇所における領域A内の凹部の開口面積又は体積がほぼ一定であることを特徴とするインプリントモールド。
IPC (4)：
B29C 59/02 ,  H01L 21/027 ,  G11B 5/84 ,  G11B 5/65
FI (4)：
B29C59/02 B ,  H01L21/30 502D ,  G11B5/84 Z ,  G11B5/65
F-Term (23)：
4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AH79 ,  4F209AJ08 ,  4F209AJ09 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5D006BB07 ,  5D006DA03 ,  5D006DA04 ,  5D006EA00 ,  5D112AA05 ,  5D112AA24 ,  5D112GA00 ,  5D112GA20 ,  5F046AA28
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 米国公開特許第2004-0065976A1号明細書
Cited by examiner (5)
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