レーザ光源装置

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (6)：深見久郎 , 森田俊雄 , 仲村義平 , 堀井豊 , 野田久登 , 酒井將行
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006246711
Publication number (International publication number)：2008071798
Application date： Sep. 12, 2006
Publication date： Mar. 27, 2008
Summary：

【課題】波長選択性および回折効率をともに高めることが可能なレーザ光源装置を提供する。【解決手段】レーザ光源装置10Aは、レーザ光LBを発光するレーザ光源1と、レーザ光源1から出射されたレーザ光LBを平行光とするコリメータレンズ2と、コリメータレンズ2によって平行光にされたレーザ光LBを波長に応じて所定の方向に屈折させるプリズム素子3と、プリズム素子3によって屈折されたレーザ光LBのうち、1次回折光をレーザ光源1の出射口の方向に反射し、0次光を出力光としてレーザ光源1と異なる方向に反射または透過させる回折格子4とを備える。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

レーザ光を発光するレーザ光源と、前記レーザ光源から出射された前記レーザ光を平行光とするコリメータレンズと、前記コリメータレンズによって平行光にされた前記レーザ光を波長に応じて所定の方向に屈折させるプリズム素子と、前記プリズム素子によって屈折された前記レーザ光のうち、1次回折光を前記レーザ光源の出射口の方向に反射し、0次光を出力光として前記レーザ光源と異なる方向に反射または透過させる回折格子とを備える、レーザ光源装置。

IPC (2)：

H01S 3/105 , H01S 5/065

FI (2)：

H01S3/1055 , H01S5/065

F-Term (19)：

5F172AE26 , 5F172CC03 , 5F172NN02 , 5F172NN08 , 5F172NN25 , 5F172NQ14 , 5F173MA02 , 5F173MC15 , 5F173MF02 , 5F173MF13 , 5F173MF39 , 5F173MF40 , 5F173SA09 , 5F173SA26 , 5F173SC02 , 5F173SE01 , 5F173SF33 , 5F173SF54 , 5F173SF76

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

レーザ光源装置、ホログラム装置及びレーザ光の検出方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-303146 Applicant：ソニー株式会社

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