ダイアフラムの製造方法およびダイアフラム板

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：杉信興
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994039828
Publication number (International publication number)：1995248062
Application date： Mar. 10, 1994
Publication date： Sep. 26, 1995
Summary：

【要約】【目的】ダイアフラムの膨出/縮退ストロ-クを大きくする。【構成】次の工程を含むダイアフラムの製造方法:A.ダイアフラム原板の表面のダイアフラム形成領域に窪みを形成する工程;B.少くとも前記窪み領域を含む表面にダイアフラム層を形成する工程;および、C.ダイアフラム原板の前記窪み領域に対向する領域に、前記ダイアフラム層で表面側が閉じられダイアフラム原板の裏面に開いた空間を形成する工程。

Claim (excerpt)：

次の工程を含むダイアフラムの製造方法:A.ダイアフラム原板の表面のダイアフラム形成領域に窪みを形成する工程;B.少くとも前記窪み領域を含む表面にダイアフラム層を形成する工程;および、C.ダイアフラム原板の前記窪み領域に対向する領域に、前記ダイアフラム層で表面側が閉じられダイアフラム原板の裏面に開いた空間を形成する工程。

IPC (3)：

F16J 3/02 , F04B 43/02 , H01S 3/07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平2-133968
ダイアフラム利用センサを製造する方法及びそれを使用して構成される装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-046411 Applicant：ハネウエル・インコーポレーテッド
光導波路駆動装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-343267 Applicant：オリンパス光学工業株式会社

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