地下水へのガス供給方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：志賀正武 (外11名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998014581
Publication number (International publication number)：1999207319
Application date： Jan. 27, 1998
Publication date： Aug. 03, 1999
Summary：

【要約】【課題】帯水層スパージングを基本とした土壌からの揮発性汚染物質の除去方法において、地下水とガスとの接触率を高め、汚染物質を効率よく除去する。【解決手段】本発明は、土壌2中の帯水層Bに含まれる地下水中の揮発性物質を、ガス注入井戸1から前記地下水に供給されたガスとともに抽出井戸5から回収する際における地下水へのガス供給方法であって、特に、ガスの供給を間欠的に行うことをその特徴としている。

Claim (excerpt)：

地下水中の揮発性物質を前記地下水に供給されたガスとともに回収する際における地下水へのガス供給方法であって、ガスの供給を間欠的に行うことを特徴とする地下水へのガス供給方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

地中汚染物質除去方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-077251 Applicant：国際航業株式会社
地中浄化方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-325520 Applicant：株式会社東芝

Cited by examiner (2)

地中汚染物質除去方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-077251 Applicant：国際航業株式会社
地中浄化方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-325520 Applicant：株式会社東芝

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