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J-GLOBAL ID：200903007379655351
回転電極を用いた薄膜形成装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
目次 誠 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997313069
Publication number (International publication number)：1999140654
Application date： Nov. 14, 1997
Publication date： May. 25, 1999
Summary：
【要約】【課題】 回転電極2への電力供給を安定化し、安定したプラズマを発生させる。また反応容器1内での遊離した微粒子の発生を抑制し、基板7以外への薄膜付着等を低減する。【解決手段】 回転電極2に対し非接触となるように設けられる電力伝達部材4を介して高周波電源5からの高周波電力を回転電極2に印加する。また、回転電極2の電極表面2bに沿って該回転電極2の一部を覆うようにカバー部材4を設け、該カバー部材4によってプラズマ発生領域を密閉する。
Claim (excerpt)：
回転することにより基板表面の近傍を移動しながら通過する電極表面を有する回転電極に高周波電力または直流電力を印加することによりプラズマを発生させて前記基板上に薄膜を形成する薄膜形成装置において、前記回転電極に対し非接触となるように設けられる電力伝達部材を介して前記電力が前記回転電極に印加されることを特徴とする薄膜形成装置。
IPC (2)：
FI (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
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回転電極を用いた高速成膜方法及びその装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平8-201722
Applicant：三洋電機株式会社, 森勇藏
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特開平3-215666
Cited by examiner (2)
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回転電極を用いた高速成膜方法及びその装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平8-201722
Applicant：三洋電機株式会社, 森勇藏
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特開平3-215666
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