i線照射によるレリーフ構造体の製造方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：萼経夫 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994124383
Publication number (International publication number)：1995005688
Application date： May. 13, 1994
Publication date： Jan. 10, 1995
Summary：

【要約】【構成】式Iの反復単位を含むポリイミド前駆体と光開始剤とからなる光重合性組成物を基材に塗布し、i線に画像様に露光し、非露光部分を除去し、コンディショニングを行うことからなるレリーフ画像の製法、上記光重合性組成物。【化1】〔基の例,X:オキシジフタル酸の4価の基,Y:芳香族シアミンの2価の基,A:-COO-,R1 :CH2 =CH(CH3 )COOC2 H4 -〕【効果】本組成物はi線における特に高い透明度および200〜600nmでの高い感光性を有し、エレクトロニクス分野におけるポリイミド保護ラッカーの製造に好適な耐熱性で耐薬品性のレリーフ構造体を与える。

Claim (excerpt)：

以下の工程:(A)ポリマー(a)と光開始剤(b)とからなる光重合性組成物での基材のコーティング、(B)i線領域(約360-370nm)内のUV輻射線への、コーティングされた基材の画像様露光、(C)溶媒による非露光部分の除去、および(D)露光および現像された材料のコンディショニングからなり、使用されるポリマー(a)は次式I:【化1】〔式中、→(矢印)は構造異性体を示し、Xは芳香族テトラカルボン酸の4価の基を表し、Yは2価の脂肪族基、環状脂肪族基または単環式もしくは多環式芳香族基を表し、Aは-COO-、-CONH-または次式:【化2】(式中、R2 およびR3 は互いに独立して炭素原子数1ないし6のアルキル基または炭素原子数1ないし6のアルケニル基を表す)で表される基を表し、そしてR1 は光重合性オレフィン二重結合を含む基を表すが、ただし、全てのX基の少なくとも50%はオキシジフタル酸の基を表すか、または全てのY基の少なくとも50%は2つのアミン窒素原子に対する4つの全てのオルト位で互いに独立して炭素原子数1ないし6のアルキル基、炭素原子数1ないし6のアルコキシ基または炭素原子数6ないし14のアリール基により置換されている芳香族ジアミンの基を表す〕で表される反復構造単位を含むポリイミド前駆体である、レリーフ画像の製造方法。

IPC (7)：

G03F 7/038 504 , C08G 73/10 NTF , G03F 7/029 , G03F 7/30 , G03F 7/40 501 , H01L 21/312 , H05K 3/28

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

特開平3-179354
特開昭59-172641
特開平3-170553

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Cited by examiner (11)

特開平3-179354
特開平3-179354
特開昭59-172641

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